[发明专利]一种采用通用离子热法合成硅基沸石分子筛的方法有效
| 申请号： | 201811065456.0 | 申请日： | 2018-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN109279621B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 孟祥举;吴勤明;肖丰收 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | C01B37/02 | 分类号： | C01B37/02;C01B39/48 |
| 代理公司： | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人： | 周世骏 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 采用 通用 离子 合成 硅基沸石 分子筛 方法 | ||
1.一种采用通用离子热法合成硅基沸石分子筛的方法，其特征在于，具体包括下述步骤：
将硅源、氟化铵、离子液体、微量水和晶种置于研钵中混合，研磨两分钟后，将混合物转至反应釜中，在130～200 oC晶化12h～7d；然后，对反应产物抽滤、烘干，即制得硅基沸石分子筛的原粉；
其中，所述离子液体是1-乙基-3-甲基咪唑溴盐、N,N-二异丙基咪唑碘盐、1-丁基-2，3-二甲基咪唑溴盐或1，2，3-三甲基咪唑碘盐中的至少一种；晶种采用全硅同质沸石分子筛晶种；所述季铵盐模板剂是四丙基溴化铵；
（1）在全硅MTT沸石的合成中，用于离子热法的原料组分满足质量比范围：SiO2∶NH4F∶N,N-二异丙基咪唑碘盐∶H2O= 1∶1.875∶6.75∶0.375，晶种的添加量与SiO2的质量比为2.5%；
（2）在全硅TON沸石的合成中，用于离子热法的原料组分满足质量比范围：SiO2∶NH4F∶1-乙基-3-甲基咪唑溴盐∶H2O= 1∶1.875∶6.875∶0.5，晶种的添加量与SiO2的质量比为2.5%；
（3）在全硅ITW沸石的合成中，用于离子热法的原料组分满足质量比范围：SiO2∶NH4F∶1-丁基-2，3-二甲基咪唑溴盐∶H2O∶1，2，3-三甲基咪唑碘盐= 1∶1.875∶6.25∶0.31∶1.25，晶种的添加量与SiO2的质量比为2.5%；
（4）在全硅MFI沸石的合成中，还添加了季铵盐模板剂；用于离子热法的原料组分满足质量比范围：SiO2∶NH4F∶1-丁基-2，3-二甲基咪唑溴盐∶H2O∶季铵盐模板剂= 1∶1.875∶6.25∶0.375∶0.375，晶种的添加量与SiO2的质量比为2.5%；
（5）在硅铝MTT沸石的合成中，还添加了铝源；用于离子热法的原料组分满足质量比范围：SiO2∶NH4F∶N,N-二异丙基咪唑碘盐∶H2O∶Al2O3= 1∶1.875∶6.75∶0.375∶0.019，晶种的添加量与SiO2的质量比为2.5%；
（6）在硅铝MFI沸石的合成中，还添加了季铵盐模板剂与铝源；用于离子热法的原料组分满足质量比范围：SiO2∶NH4F∶1-丁基-2，3-二甲基咪唑溴盐∶H2O∶季铵盐模板剂∶Al2O3= 1∶1.875∶6.25∶0.375∶0.375∶0.019。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硅源是固体硅胶。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述铝源是薄水铝石。
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