[发明专利]离子植入机

权利要求书

1.一种离子植入机，其特征在于，包括：

离子源结构，所述离子源结构所采用的离子源为电感耦合等离子体源，所述离子源结构包括用于提供气体分子离化的解离腔，在所述解离腔内形成有覆盖所述解离腔内壁的石墨保护层；

分析磁体，与所述离子源结构连接，能够接收所述离子源结构提供的离子束，并分离得到植入离子束；

价态转换装置，与所述分析磁体连接，能够接收从所述分析磁体出射的所述植入离子束，并对所述植入离子束中离子的价态进行转化。

2.根据权利要求1所述的离子植入机，其特征在于，所述离子植入机还包括炬管和高频线圈，所述炬管的材料为介电材料，所述炬管固定安装在所述解离腔内；所述炬管包括同轴设置的第一石英管和第二石英管，所述第一石英管设置在所述第二石英管内部，所述高频线圈包绕所述第二石英管的外侧壁设置。

3.根据权利要求2所述的离子植入机，其特征在于，所述解离腔包括离子出口，所述离子出口形成为朝向所述炬管收紧的漏斗状，设置在所述炬管的轴线上。

4.根据权利要求1所述的离子植入机，其特征在于，所述价态转换装置为反应池，所述反应池内通有轰击等离子体，用于对所述植入离子束进行轰击。

5.根据权利要求1所述的离子植入机，其特征在于，所述离子植入机还包括：

电子发生装置，所述电子发生装置为淹没式等离子体枪，其等离子体源为电感耦合等离子体源，设置于所述价态转换装置的下游，能够向所述植入离子束提供电子。

6.根据权利要求5所述的离子植入机，其特征在于，

所述电子发生装置包括：电子发生部和设置在所述电子发生部一侧的电子吸出部；

所述电子发生部包括：发生腔、第二炬管以及设置在所述第二炬管上的第二高频线圈；

所述发生腔上设置有气体口以及电子出口；

所述电子吸出部与偏压电源连接。