[发明专利]一种长焦大离轴量离轴抛物面的检测装置及方法有效
| 申请号： | 201811056440.3 | 申请日： | 2018-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN109163682B | 公开（公告）日： | 2020-08-18 |
| 发明（设计）人： | 胡建军;潘君骅;钱煜;王伟 | 申请（专利权）人： | 苏州如期光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30;G01M11/00;G01M11/02 |
| 代理公司： | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人： | 王利斌 |
| 地址： | 215131 江苏省苏州市相城区经济开发区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 长焦大离轴量离轴 抛物面 检测 装置 方法 | ||
1.一种长焦大离轴量离轴抛物面的干涉检测装置，沿着干涉仪发出的光波传播方向依次排布有：发散镜头、标准球面反射镜、标准平面反射镜，所述的发散镜头将干涉仪发出的光波调制成发散的球面波，发散的球面波经标准球面反射镜反射入射至被测长焦大离轴量离轴抛物面，经被测长焦大离轴量离轴抛物面反射后的光波为平面波，所述平面波垂直入射至标准平面反射镜后原路返回；所述的标准球面反射镜与被测长焦大离轴量离轴抛物面组成偏轴两镜系统，且所述发散镜头虚焦点和偏轴两镜系统的像点重合。
2.一种长焦大离轴量离轴抛物面的干涉检测方法，其特征在于：使用权利要求1所述的长焦大离轴量离轴抛物面的干涉检测装置对被测长焦大离轴量离轴抛物面进行测量。
3.一种长焦大离轴量离轴抛物面的检测方法，其特征在于：在研磨阶段，用三坐标测量机测量，根据长焦大离轴量离轴抛物面的参数方程求解出表面误差分布；在抛光阶段，使用权利要求2所述的长焦大离轴量离轴抛物面的干涉检测方法进行测量。
4.根据权利要求3所述的长焦大离轴量离轴抛物面的检测方法，其特征在于：在抛光的粗抛阶段，用刀口仪进行阴影检验；由平行光管提供大口径平行光束，平行光束和被测长焦大离轴量离轴抛物面的母抛物面光轴平行，平行光束经被测长焦大离轴量离轴抛物面反射后会聚在该抛物面的焦点F，在所述焦点F处的焦平面上用两维刀口对被测长焦大离轴量离轴抛物面的会聚波前进行阴影检验。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州如期光电科技有限公司，未经苏州如期光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811056440.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种封合剂喷涂面积检测装置及检测方法
- 下一篇：轨道波磨病害诊断方法与装置
