[发明专利]一种可诱生负离子釉料、瓷砖及瓷砖的制备工艺

权利要求书

1.一种可诱生负离子的釉料，其特征在于，包括底釉和面釉，所述底釉包含以质量百分比计的钠辉石8 ~ 9%、萤石6~ 7%、重晶石3~ 4%，余量为基础底釉料；所述面釉包含以质量百分比计的钛矿0.5 ~ 1%、α-Al₂O₃ 8~ 13%和钛白粉10 ~ 15%，余量为基础面釉料；

所述钠辉石包含以质量百分比计的3~6%二氧化钍、2~4%二氧化铈和2~3%二氧化钛；所述萤石包含以质量百分比计的3~6%二氧化钍、2~4%二氧化铈和2~3%二氧化钛。

2.根据权利要求1所述的可诱生负离子的釉料，其特征在于，所述基础底釉料包含占底釉总量质量百分比的钠长石粉10 ~ 25%、高铝钾砂10 ~ 15%、锆英砂10 ~ 25%、球粘土15 ~20%、锂辉石粉12 ~ 18%、石英0 ~ 5%、氧化镁3~ 5%和氧化锌5 ~ 10%。

3.根据权利要求1所述的可诱生负离子的釉料，其特征在于，所述基础面釉料包含占面釉总量质量百分比的烧氧化锌5 ~ 10%、钠长石粉15 ~ 30%、高铝钾砂8 ~ 10%、锆英砂15 ~25%、球粘土7 ~ 15%、锂辉石粉8~ 15%、石英0 ~ 5%和氧化镁3~ 5%。

4.根据权利要求1所述的可诱生负离子的釉料，其特征在于，所述底釉和面釉的烧成温度为1080~1200℃。

5.具有权利要求1~4任一项所述的可诱生负离子的釉料的瓷砖，其特征在于，包括由下至上依次设置的坯体、底釉层和面釉层，所述底釉层由所述底釉形成，所述面釉层由所述面釉形成。

6.根据权利要求5所述的瓷砖，其特征在于，所述面釉层上通过喷墨渗透工艺、喷墨打印、滚筒印花和/或网版印花的方式设置有装饰层。

7.一种权利要求5所述的瓷砖的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

制备底釉浆：将所述底釉的原料按配比混入球磨机进行湿法球磨获得底釉浆；

制备面釉浆：将所述面釉的原料按配比混入球磨机中进行湿法球磨，获得面釉浆；

制备砖坯：采用现有的坯体原料制成砖坯；

施釉：在砖坯的表面施底釉浆，之后在底釉浆上布施面釉浆；

入窑烧成，烧成温度为1080～1200℃。

8.根据权利要求7所述的制备工艺，其特征在于， 还包括表面装饰步骤：在具有面釉浆的砖坯上通过喷墨渗透工艺、喷墨打印、滚筒印花和/或网版印花的方式设置装饰层。

9.根据权利要求7所述的制备工艺，其特征在于，所述底釉浆细度为：325目筛余0.8~1.2，所述底釉浆比重1.88~1.99、流速35~40 s。

10.根据权利要求7所述的制备工艺，其特征在于，所述面釉浆细度为：325目筛余0.8~1.2，所述面釉浆比重1.88~1.99、流速35~40 s。