[发明专利]用于减少环境光在发射显示器中的反射的方法和系统在审

专利信息
申请号: 201811043790.6 申请日: 2018-09-07
公开(公告)号: CN109473457A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: F·S·J·切斯特曼;A·韦特赛朋斯 申请(专利权)人: 巴科股份有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈斌
地址: 比利时*** 国省代码: 比利时;BE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示器 环境光 反射 发射显示器 有机发光二极管 系统描述 反射层 光损耗
【权利要求书】:

1.一种显示系统,包括:

-显示器,所述显示器具有内部发射光源并具有光吸收层,其中,来自所述内部发射光源的内部光具有光谱发射带,并且其中,所述光吸收层具有至少一个光谱吸收带和至少一个光谱透射带,

-至少一个外部光源,其中,来自所述至少一个外部光源的外部光具有至少一个外部光谱发射带,

其特征在于

-所述外部光源被选择成使得在所述至少一个外部光谱发射带中的每一者的半峰全宽内的波长范围与在所述内部光的光谱发射带中的任何一者的半峰全宽内的波长范围没有交叠,以及

-所述吸收层被选择并放置成使得所述外部光的所述至少一个外部光谱发射带中的每一者与所述吸收层的光谱吸收带交叠,以使得所述外部光的吸光率是至少50%,以及

-所述内部光源的光谱发射带与所述吸收层的光谱透射带交叠,以使得所述内部光源中的每一者的光的透射率是至少45%。

2.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述吸收层被选择成使得所述外部光的所述至少一个光谱发射带中的每一者与所述吸收层的光谱吸收带交叠,以使得所述外部光的吸光率是至少60%、70%或高达80%或等效方案。

3.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述内部光源的光谱发射带与所述吸收层的光谱透射带交叠,以使得所述内部光中的每一者的透射率是至少55%、65%或高达75%或等效方案。

4.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,多个外部光源中的每一者的贡献被适配成使得所有光源一起提供白光。

5.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,包括抗反射涂层,所述抗反射涂层被配置成减少所述外部光的光谱发射带中的反射。

6.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,包括抗反射涂层,所述抗反射涂层被配置成:增强所述内部光的光谱发射带的透射,或者可任选地主要增强所述内部光的光谱发射带中的透射。

7.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,包括光散射层,所述光散射层被放置成接收由所述吸收层透射的内部光。

8.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述内部发射光源包括第一内部光源、第二内部光源和第三内部光源,每个内部光源分别在波长范围440nm–481nm、503nm–569nm和588nm–664nm中发射该内部光源的光发射的总能量的至少80%。

9.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述内部发射光源包括第一内部光源、第二内部光源和第三内部光源,其中,所述第一内部光源、所述第二内部光源和所述第三内部光源的强度被调谐成使得由所述吸收层透射的光是白光。

10.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述外部光源被配置成:在波长范围482nm–502nm或570nm–587nm中发射所述外部光源的光发射的总能量的至少80%。

11.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述外部光源包括第一外部光源和第二外部光源,每个外部光源分别在波长范围482nm–502nm和570nm–587nm中发射该外部光源的光的总能量的至少80%。

12.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述吸收层在波长范围482nm–502nm或570nm–587nm中的吸光率使得在所述波长范围中所述外部光的至少80%被吸收。

13.如权利要求1所述的显示系统,其特征在于,所述吸收层在波长范围440nm–481nm、503nm–569nm和588nm–664nm中的透射率使得在所述波长范围中所述内部光源中的每一者的光的至少50%被透射。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于巴科股份有限公司,未经巴科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811043790.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top