[发明专利]控制了重链与轻链的缔合的抗原结合分子有效
| 申请号: | 201811040667.9 | 申请日: | 2012-10-31 | 
| 公开(公告)号: | CN109134658B | 公开(公告)日: | 2022-10-14 | 
| 发明(设计)人: | 仓持太一;川添明里;广庭奈绪香;井川智之 | 申请(专利权)人: | 中外制药株式会社 | 
| 主分类号: | C07K16/46 | 分类号: | C07K16/46;C12N15/13 | 
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张莹;高丽娜 | 
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 控制 缔合 抗原 结合 分子 | ||
1.抗原结合分子,其是控制了重链与轻链的缔合的抗原结合分子,其中
在该抗原结合分子中,重链和轻链中的以下的(a)所示氨基酸残基组是电荷相互排斥的氨基酸残基:
(a) 重链恒定区CH1所包含的EU编号第175位的氨基酸残基、和轻链恒定区CL所包含的EU编号第160位的氨基酸残基;
其中,上述电荷相互排斥的氨基酸残基选自谷氨酸(E)和赖氨酸(K)。
2. 权利要求1所述的抗原结合分子,进一步地其中以下的(b)至(c)的一项或多项中所示氨基酸残基组中的氨基酸残基是电荷相互排斥的氨基酸残基:
(b) CH1所包含的EU编号第147位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第131位的氨基酸残基;和
(c) CH1所包含的EU编号第213位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第123位的氨基酸残基;
其中,上述电荷相互排斥的氨基酸残基选自谷氨酸(E)和赖氨酸(K)。
3.权利要求1-2中任一项所述的抗原结合分子,其中形成重链可变区和轻链可变区之间的界面的两个或更多氨基酸残基是所述电荷相互排斥的氨基酸残基。
4.权利要求1-2任一项所述的抗原结合分子,其中该抗原结合分子为双特异性抗体。
5.控制了重链与轻链的缔合的抗原结合分子的制备方法,该制备方法包括下述的步骤(1)-(3):
(1)修饰编码重链恒定区CH1和轻链恒定区CL的核酸,使以下的(a)所示氨基酸残基组电荷相互排斥:
(a) CH1所包含的EU编号第175位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第160位的氨基酸残基;
(2) 将上述修饰了的核酸导入宿主细胞中,并培养宿主细胞,使该宿主表达该核酸;和
(3) 从上述宿主细胞的培养物中回收抗原结合分子,
其中,所述方法在上述步骤(1)中包括如下步骤:修饰核酸,使电荷相互排斥的氨基酸残基选自谷氨酸(E)和赖氨酸(K)。
6. 权利要求5所述的抗原结合分子的制备方法,其在上述步骤(1)中还包括如下步骤:修饰核酸,使以下的(b)-(c)中一项或多项所示氨基酸残基组的氨基酸残基电荷相互排斥:
(b) CH1所包含的EU编号第147位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第131位的氨基酸残基;和
(c) CH1所包含的EU编号第213位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第123位的氨基酸残基;
其中,所述方法在上述步骤(1)中包括如下步骤:修饰核酸,使电荷相互排斥的氨基酸残基选自谷氨酸(E)和赖氨酸(K)。
7.权利要求5-6中任一项所述的抗原结合分子的制备方法,其在上述步骤(1)中还包括如下步骤:修饰核酸,使形成重链可变区和轻链可变区之间的界面的两个或更多氨基酸残基是所述电荷相互排斥的氨基酸残基。
8.抗原结合分子的重链与轻链的缔合控制方法,该方法包括:
修饰核酸,使以下的(a)所示氨基酸残基组成为电荷相互排斥的氨基酸残基:
(a) CH1所包含的EU编号第175位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第160位的氨基酸残基;
其中,上述电荷相互排斥的氨基酸残基选自谷氨酸(E)和赖氨酸(K)。
9. 权利要求8所述的方法,所述方法还包括如下步骤:修饰核酸,使以下的(b)至(c)的一项或多项中所示氨基酸残基组中的氨基酸残基是电荷相互排斥的氨基酸残基:
(b) CH1所包含的EU编号第147位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第131位的氨基酸残基;和
(c) CH1所包含的EU编号第213位的氨基酸残基、和CL所包含的EU编号第123位的氨基酸残基;
其中,上述电荷相互排斥的氨基酸残基选自谷氨酸(E)和赖氨酸(K)。
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