[发明专利]过程窗口的优化方法有效
申请号: | 201811040666.4 | 申请日: | 2015-01-07 |
公开(公告)号: | CN109283800B | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 斯蒂芬·亨斯克;V·维拉恩基 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G06F30/20;H01L21/66 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王静 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 过程 窗口 优化 方法 | ||
1.一种用于器件制造过程的缺陷确定或预测方法,所述器件制造过程涉及将图案加工至衬底上,所述方法包括:
从所述图案识别出工艺窗口限制图案(PWLP);
确定所述工艺窗口限制图案被加工所依据的工艺参数;
将所述工艺参数编译成工艺参数图;和
使用所述工艺参数图来确定或预测利用所述器件制造过程由所述工艺窗口限制图案产生的缺陷的存在、存在几率、特性或其组合。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述工艺参数由多个数据源组成。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述多个数据源中的第一个数据源包括相对高的数据密度,并且所述多个数据源中的第二个数据源包括相对低的数据密度。
4.根据权利要求1所述的方法,还包括将所述工艺参数图转换为约束图。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述约束图指示所述工艺参数在哪个范围内变化而不危害所述工艺窗口限制图案。
6.根据权利要求4所述的方法,其中,所述约束图包括权重图,所述权重图指示所述图案的哪些区域要求所述工艺参数接近于所述器件制造过程的最佳参数设定。
7.根据权利要求4所述的方法,其中,所述约束图包括权重图,所述权重图指示所述图案的哪些区域允许较大范围的工艺参数值。
8.根据权利要求1所述的方法,其中,使用经验模型或计算模型来识别所述工艺窗口限制图案。
9.根据权利要求1所述的方法,其中,所述工艺参数是选自下列中的任一个或更多个:聚焦量、剂量、源参数、投影光学装置参数、从量测获得的数据、和/或来自所述器件制造过程中所使用的加工设备的操作者的数据。
10.一种制造器件的方法,包括:
根据权利要求1-9中任一项所述的方法;和
至少部分地基于所确定或预测的缺陷指示检查多个工艺窗口限制图案中的哪个。
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