[发明专利]多孔纳米片基NiCo2

权利要求书

1.多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，所述多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管包括一维的中空管和生长在管壁上的超薄纳米片，在超薄纳米片上有介孔，且交叉的超薄纳米片之间形成孔隙，中空管和超薄纳米片均为尖晶石结构的NiCo2O4，超薄纳米片为2D超薄纳米片，按照下述步骤进行：

步骤1，将可溶性钴盐和L-天冬氨酸置于反应釜中并加入水和乙二醇，使用氢氧化钠调节体系pH为6—7，在160—200摄氏度下反应，离心干燥得到粉色产物钴-L-天冬氨酸无机有机杂化物纳米线；元素钴和L-天冬氨酸为等摩尔比，水和乙二醇为等体积比；

步骤2，将步骤1得到的钴-L-天冬氨酸无机有机杂化物纳米线置于反应釜中，加入无水乙醇、水和可溶性镍盐，无水乙醇和水的体积比为2：1，金属镍和金属钴的摩尔比为1:2，在160—200摄氏度下反应，离心干燥得到蓝绿色的沉淀钴镍-L-天冬氨酸无机有机杂化物核壳纳米线；

步骤3，将步骤2得到的沉淀钴镍-L-天冬氨酸无机有机杂化物核壳纳米线置于封闭空气的管式炉中自室温20—25摄氏度起以1—5℃/min的升温速率升温至300—400℃并保温，以去除L-天冬氨酸,自然冷却至室温20—25摄氏度。

2.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，一维中空管的管径为400—500nm，超薄纳米片上介孔的孔径为4—7nm，交叉的超薄纳米片之间形成的孔隙大小为45—55nm，超薄纳米片厚度集中在4.5-6纳米。

3.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在步骤1中，可溶性钴盐为硝酸钴、六水合硝酸钴或者氯化钴，反应温度为180—200摄氏度。

4.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在步骤1中，反应时间为5h以上，优选5—10小时。

5.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在步骤2中，可溶性镍盐为硝酸镍、六水合硝酸镍或者氯化镍，反应温度为180—200摄氏度。

6.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在步骤2中，反应时间为5h以上，优选5—10小时。

7.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在步骤3中，保温时间为1—10小时。

8.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在步骤3中，保温气氛为空气氛围，自室温20—25摄氏度起以1—5℃/min的升温速率升温至300—350℃进行保温。

9.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在步骤3中，保温时间为4—8小时。

10.根据权利要求1所述的多孔纳米片基NiCo₂O₄纳米管用于高效碳烟催化消除，其特征在于，在碳烟消除中的应用并能够同时消除氮氧化合物。