[发明专利]一种n型太阳能电池制备方法及n型太阳能电池在审
申请号: | 201811031261.4 | 申请日: | 2018-09-05 |
公开(公告)号: | CN109192817A | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 徐冠群;包健;张昕宇;金浩 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0352;H01L31/0216;H01L31/068 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 选择性发射极 制备 氧化层 表面形成 第一表面 交替排列 轻掺杂区 重掺杂区 衬底层 复合 隔离 制作 | ||
1.一种n型太阳能电池制备方法,其特征在于,所述方法包括:
在n型衬底层的第一表面设置p型掺杂层;
在所述p型掺杂层表面设置选择性发射极;
对设置有所述选择性发射极的所述p型掺杂层进行氧化,以在所述p型掺杂层表面设置一覆盖所述选择性发射极的氧化层;
在设置完所述氧化层后,在所述p型衬底层与所述第一表面相对的第二表面设置n型掺杂层;
在所述氧化层表面设置与所述选择性发射极相对位,且与所述选择性发射极电连接的第一栅线,并在所述n型掺杂层表面设置第二栅线,以制成所述n型太阳能电池。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述p型掺杂层表面设置选择性发射极包括:
在所述p型掺杂层表面的预设栅线区域涂布保护层;
通过刻蚀液刻蚀所述p型掺杂层表面的非预设栅线区域,以制成所述选择性发射极;
在制成所述选择性发射极之后,去除所述保护层。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述通过刻蚀液刻蚀所述p型掺杂层表面的非预设栅线区域包括:
通过HF/HNO3混酸刻蚀液刻蚀所述p型掺杂层表面的非预设栅线区域。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在所述p型掺杂层表面的预设栅线区域涂布保护层包括:
在所述p型掺杂层表面的预设栅线区域涂布有机蜡保护层;
所述去除所述保护层包括:
去除所述有机蜡保护层。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述p型衬底层与所述第一表面相对的第二表面设置n型掺杂层包括:
刻蚀并暴露所述n型衬底层的所述第二表面;
在所述n型衬底层的所述第二表面进行磷扩散,以形成所述n型掺杂层。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述在所述p型衬底层与所述第一表面相对的第二表面设置n型掺杂层之后,所述方法还包括:
对设置有所述n型掺杂层的所述n型衬底层进行钝化,以在所述氧化层表面形成第一钝化层,并在所述n型掺杂层表面形成第二钝化层;
所述在所述氧化层表面设置与所述选择性发射极相对位,且与所述选择性发射极电连接的第一栅线包括:
在所述第一钝化层表面设置所述第一栅线;
所述在所述n型掺杂层表面设置第二栅线包括:
在所述第二钝化层表面设置与所述n型掺杂层电连接的所述第二栅线。
7.根据权利要求1至6任一项权利要求所述的方法,其特征在于,所述在n型衬底层的第一表面设置p型掺杂层包括:
在所述n型衬底层的第一表面进行硼扩散,以形成所述p型掺杂层。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在所述n型衬底层的第一表面进行硼扩散,以形成所述p型掺杂层包括:
在所述n型衬底层的第一表面进行硼扩散,以形成所述p型掺杂层;其中,所述硼扩散的温度的取值范围为900℃至1050℃,包括端点值;所述硼扩散的时间的取值范围为10min至120min,包括端点值;所述p型掺杂层的厚度的取值范围为0.2μm至1.0μm,包括端点值。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在所述在所述n型衬底层的第一表面进行硼扩散之后,所述方法还包括:
刻蚀掉在所述n型衬底层的所述第二表面所形成的p型掺杂层。
10.一种n型太阳能电池,其特征在于,所述n型太阳能电池具体为采用上述权利要求1至9任一项权利要求所述方法所制备的n型太阳能电池。
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