[发明专利]光学元件的处理方法

说明书

本申请涉及一种光学元件的处理方法，包括如下清洗步骤：将待处理的光学元件依次置于航空汽油中浸泡，擦洗；丙酮中浸泡，超声清洗，水冲洗；四氯化碳中浸泡，超声清洗，水冲洗；盐酸溶液中煮沸，水浸泡，水冲洗；水超声清洗；过氧化氨超声清洗，水冲洗；水超声清洗；水浸泡，水冲洗等。上述光学元件的处理方法，可实现光学元件的高洁净度清洗，有效去除光学元件表面残留的松香、沥青、蜂蜡、盐、氧化铈、氧化铁、氧化铝等污染物。

技术领域

本发明涉及光学加工处理技术领域，特别是涉及一种光学元件的处理方法。

背景技术

光学元件在精密抛光后，表面大多残留有多种有机物和抛光粉微粒，如松香、沥青、蜂蜡、氧化铈、氧化铁、氧化铝微粒等，这些表面残留的污染物直接影响着光学元件镀膜后的膜片质量，具体表现为不但对元件表面产生腐蚀，影响薄膜的光谱特性，而且在紫外激光辐照下极易吸收热量，引起周围薄膜的烧蚀，从而大幅度降低薄膜对高功率激光的承受能力，成为元件损伤的诱发源和短板。

因此，寻找一种能有效去除光学元件表面残留污染物的光学元件的处理方法成为人们研究的热点。

发明内容

基于此，有必要提供一种能有效去除光学元件表面残留污染物的光学元件的处理方法。

一种光学元件的处理方法，包括如下清洗步骤：

(1)提供待处理的光学元件；

(2)将步骤(1)所得光学元件在航空汽油中浸泡50～70分钟，对光学元件柱面外的粘结胶进行擦洗；

(3)将步骤(2)所得光学元件在丙酮中浸泡10～20分钟，超声清洗3～5分钟，取出，用40℃～50℃的水冲洗；

(4)将步骤(3)所得光学元件在四氯化碳中浸泡30～50分钟，超声清洗3～5分钟，取出，用40℃～50℃的水冲洗；

(5)将步骤(4)所得光学元件在盐酸溶液中煮沸8～10分钟，取出，在40℃～50℃的水中浸泡5～10分钟，用40℃～50℃的水冲洗1～2分钟；

(6)将步骤(5)所得光学元件在40℃～50℃的水中超声清洗2～3分钟；

(7)将步骤(6)所得光学元件在过氧化氨中超声清洗5～7分钟，取出，用40℃～50℃的水冲洗，至冲洗后的水呈中性；

(8)将步骤(7)所得光学元件在80℃～90℃的水中超声清洗3～5分钟；

(9)将步骤(8)所得光学元件在80℃～90℃的水中浸泡，取出，用40℃～50℃的水冲洗1～2分钟，得到处理后的光学元件。

在其中一个实施例中，所述待处理的光学元件为研磨抛光机下盘后置于80℃～90℃的水中取下的光学元件；

在其中一个实施例中，所述光学元件为一个或多个。

在其中一个实施例中，所述步骤(2)和步骤(3)之间还包括以下步骤：

将步骤(2)所得光学元件置于清洗架上，所述步骤(2)所得光学元件远离工作面的一面与所述清洗架接触。

在其中一个实施例中，所述步骤(2)所得光学元件工作面朝上置于丙酮中浸泡，步骤(2)所得光学元件的工作面与所述丙酮液面之间的距离为10mm～15mm；

所述步骤(3)所得光学元件工作面朝上置于四氯化碳中浸泡，步骤(3)所得光学元件的工作面与四氯化碳液面之间的距离为10mm～15mm；

所述步骤(6)所得光学元件工作面朝上置于过氧化氨中超声清洗，步骤(6)所得光学元件的工作面与过氧化氨液面之间的距离为15mm～20mm；