[发明专利]穿透率检测方法、装置和计算机可读存储介质有效
| 申请号: | 201811024525.3 | 申请日: | 2018-09-03 |
| 公开(公告)号: | CN109142284B | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
| 发明(设计)人: | 何洋 | 申请(专利权)人: | 重庆惠科金渝光电科技有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/59 | 分类号: | G01N21/59 |
| 代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
| 地址: | 400000 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 穿透 检测 方法 装置 计算机 可读 存储 介质 | ||
本发明公开了一种穿透率检测方法,所述穿透率检测方法包括以下步骤:获取待测试偏光片在测试点处的初始穿透率;获取与所述测试点处对应的穿透率修正值;根据所述初始穿透率和所述测试点对应的穿透率修正值确定所述待测试偏光片的穿透率。本发明还公开了一种穿透率检测装置和计算机可读存储介质。本发明使得偏光片的穿透率检测减小了背光波动和对位偏差导致的误差,提高了偏光片检测的准确性。
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及穿透率检测方法、装置和计算机可读存储介质。
背景技术
显示技术领域中,偏光片对面板的穿透率、亮度、对比度、视角、色度、色调等光学品味有着重要影响,特别是面板穿透率一直是显示领域关注的焦点;偏光片主要由PVA膜、TAC膜、保护膜、离型膜和压敏胶等复合制成,再加上众多的表面处理方式:如防眩处理(AG)、低反射处理(AR)、透明硬化处理(CHC)等,因此在众多的偏光片架构筛选一种高穿透率的偏光片具有重要意义。
已知检测技术:
目前偏光片穿透率的验证常用方法为选定测试点位置,然后逐次偏贴不同的测试样品,从而达到比较不同偏光片样品穿透率的目的。当我们逐次偏贴偏光片测量其穿透率时,测量结果容易受背光亮度波动,人为更换OC产生的Bending、测量点对位偏差等不同程度的影响,这样不但测量误差大而且需要花费大量的时间,也降低了穿透率检测的准确性。
综上,目前的穿透率检测方式受其他因素影响大,导致检测的穿透率误差大,准确率差。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种穿透率检测方法、装置和计算机可读存储介质,旨在解决目前的穿透率检测方式受其他因素影响大,导致检测的穿透率误差大,准确率差的问题。
为实现上述目的,本发明一方面提供一种穿透率检测方法,所述穿透率检测方法包括以下步骤:
获取待测试光学膜片在测试点处的初始穿透率;
获取与所述测试点处对应的穿透率修正值;
根据所述初始穿透率和所述测试点对应的穿透率修正值确定所述待测试光学膜片的穿透率。
可选地,所述获取待测试光学膜片在测试点处的初始穿透率的步骤之前,还包括:
获取一片待测试光学膜片在各个测试点上的穿透率;
确定各个测试点中的基准测试点的穿透率;
将其他测试点的穿透率与所述基准测试点的穿透率比较,计算得到每个测试点的穿透率修正值,其中其他测试点为除基准测试点之外的测试点。
可选地,所述将其他测试点的穿透率与所述基准测试点的穿透率比较,计算得到每个测试点的穿透率修正值,其中其他测试点为除基准测试点之外的测试点的步骤之前,还包括:
确定每个测试点的位置信息和背光信息;
根据所述位置信息和背光信息确定每个测试点对应的穿透率趋势信息;
判断每个测试点的穿透率是否符合所述穿透率趋势信息;
在符合时,执行将其他测试点的穿透率与所述基准测试点的穿透率比较,计算得到每个测试点的穿透率修正值的步骤。
可选地,在存在多片待检测的光学膜片时,所述根据所述初始穿透率和所述测试点对应的穿透率修正值确定所述待测试光学膜片的穿透率的步骤包括:
在确定所述多片待检测的光学膜片的穿透率后,将检测到的各待检测光学膜片的穿透率比较,得到各待检测光学膜片的穿透率的差值。
可选地,所述获取待测试光学膜片在测试点处的初始穿透率的步骤之前,还包括:
确定各个测试点对应的背光信息;
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