[发明专利]显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

基板；

发光单元阵列层，设置于所述基板上；

第一无机层，设置于所述发光单元阵列层和所述基板上；

阻挡层，设置于所述基板上，且设置于所述第一无机层远离所述发光单元阵列层的侧边，所述阻挡层与第一无机层在所述基板上间隔设置，以使得所述阻挡层、所述第一无机层、所述基板之间形成凹槽；

有机层，设置于所述第一无机层上、所述阻挡层上、所述凹槽对应位置的所述基板上以及所述阻挡层远离所述发光单元阵列层的侧边的所述基板上；

第二无机层，设置于所述有机层和所述基板上，所述第二无机层至少部分位于所述凹槽中；

所述第一无机层背向所述基板的表面与所述阻挡层背向所述基板的表面齐平，所述第一无机层与所述阻挡层是在同一道工序中形成的。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡层围绕所述第一无机层和所述发光单元阵列层设置。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基板包括柔性衬底和设置于柔性衬底上的TFT阵列层。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述有机层为有机胶层。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述发光单元阵列层为OLED发光单元阵列层。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡层与所述第一无机层材质相同。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡层的厚度等于所述发光单元阵列层的厚度与所述第一无机层位于所述发光单元阵列层上的部分的厚度之和。

8.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

提供基板；

在基板上形成发光单元阵列层；

在所述发光单元阵列层和所述基板上形成无机材料层；

对所述无机材料层位于所述基板上的部分进行蚀刻形成凹槽，所述凹槽贯穿所述无机材料层并将所述无机材料层分隔为第一无机层和阻挡层，所述第一无机层背向所述基板的表面与所述阻挡层背向所述基板的表面齐平；

在所述第一无机层、所述阻挡层上以及所述基板上形成有机层；其中所述有机层形成于所述凹槽对应位置的所述基板上，以及所述阻挡层远离所述发光单元阵列层一侧的基板上；

在所述有机层和所述基板上形成第二无机层，其中所述第二无机层至少部分位于所述凹槽中。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述有机层为有机胶层。