[发明专利]一种冗余图形添加方法在审
| 申请号： | 201811013506.0 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109101755A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 姜立维;魏芳;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 冗余图形 有效周长 预设 器件可靠性 薄膜沉积 薄膜生长 原始版图 均匀性 沉积 晶片 薄膜 切割 生长 保证 | ||
1.一种冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形添加方法，包括：
执行步骤S1：将版图按预设窗口SW大小进行切割；
执行步骤S2：计算各窗口内原始版图的图形密度及有效周长；
执行步骤S3：以添加冗余图形后之冗余图形添加窗口内的有效周长为目标，选取预设的冗余图形之结构形式进行添加；
执行步骤S4：以添加冗余图形后之冗余图形添加窗口内的图形密度为目标，对添加的冗余图形进行调整。
2.如权利要求1所述冗余图形添加方法，其特征在于，所述有效周长为位于所述冗余图形添加窗口内的图形之周长。
3.如权利要求1所述冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形之结构为L型冗余结构图形之结构形式或者十字型冗余结构图形之结构形式。
4.如权利要求3所述冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形之L型冗余结构图形或者十字型冗余结构图形在保证有效周长不变时可改变面积。
5.如权利要求1所述冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形添加方法进一步包括：
当Den＝DenT时，添加冗余图形后冗余图形添加窗口的密度Den与密度目标值DenT一致，不需要对添加的冗余图形进行调整。
6.如权利要求1所述冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形添加方法进一步包括：
当Den＞DenT时，添加冗余图形后冗余图形添加窗口的密度Den超出密度目标值DenT，需要对添加的冗余图形之面积进行减少调整。
7.如权利要求6所述冗余图形添加方法，其特征在于，在对添加的冗余图形之面积进行减少调整时，减少后之边长a'不得小于允许的最小线端长度Lendmin，所述调整后的冗余图形线宽Lw'不得小于最小的允许线宽Lwmin。
8.如权利要求1所述冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形添加方法进一步包括：
当Den＜DenT时，添加冗余图形后冗余图形添加窗口的密度Den小于密度目标值DenT，需要对添加的冗余图形之面积进行增大调整。
9.如权利要求8所述冗余图形添加方法，其特征在于，在对添加的冗余图形之面积进行增大调整时，增大后之边长a'不得大于允许的最大线端长度Lendmax；所述调整后的冗余图形线宽Lw'不得大于最大的允许线宽Lwmax。
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