[发明专利]单色聚焦X射线光源及采用该光源分析低含量铅砷的方法在审
申请号: | 201811013196.2 | 申请日: | 2018-08-31 |
公开(公告)号: | CN108872282A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 范真 | 申请(专利权)人: | 深圳市禾苗分析仪器有限公司 |
主分类号: | G01N23/223 | 分类号: | G01N23/223 |
代理公司: | 深圳市辉泓专利代理有限公司 44510 | 代理人: | 袁辉;刘玉珍 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光栏 聚焦环 射线发射 砷元素 光源分析 内表面 铅元素 铅砷 聚焦 高强度单色光 特征X射线 高效激发 鼓形结构 机构设置 特征荧光 同轴设置 聚光器 中轴线 重合 鼓形 光源 摄像 照射 汇聚 激发 检测 吸收 | ||
本发明公开一种单色聚焦X射线光源及采用该光源分析低含量铅砷的方法,光源包括射线发射机构、前光栏、聚焦环和后光栏,前光栏对应于射线发射机构设置,聚焦环设置在前光栏前方,后光栏设置在聚焦环前方,聚焦环内侧的聚焦环内表面采用鼓形结构,前光栏、聚焦环内表面和后光栏同轴设置,其轴心与射线发射机构的中轴线相重合。本发明采用鼓形聚光器对X摄像进行单色、汇聚,从而形成高强度单色光,可对低含量砷元素进行检测。本发明照射样品的X射线恰好高于砷元素的K吸收限11.867keV,可高效激发砷元素的特征X射线但不会激发铅元素,完全避免了铅元素特征荧光的干扰。
技术领域
本发明公开一种X射线光源及其应用,特别是一种单色聚焦X射线光源及采用该光源分析低含量铅砷的方法。
背景技术
在社会生产和人民生活中,经常需要分析、检测有害元素,目前最常用的快速检测方法是X射线荧光光谱法,所使用的仪器为X射线荧光光谱仪。
X射线荧光光谱仪(即X-Ray Fluorescence Spectrometer,常简称为XRF)作为一种快速无损检测工具,被广泛应用于有害元素检测领域。其原理是:X射线荧光光谱分析法(X-Ray Fluorescence)是利用初级X射线光子激发待测物质中的原子,使之产生荧光(次级X射线)而进行物质成分分析的方法。当X射线光子照射物体时,会发生包括热、透射、散射、光电效应等在内的相互作用,其中光电效应中的荧光X射线可被用来做元素分析。请参看附图1,当X射线光子能量大于被照射物体中原子内层电子的结合能(Binding Energy,此能量也称为吸收限)时,核的内层电子共振吸收射线的辐射能量后发生跃迁,而在内层电子轨道上留下一个空穴,处于高能态的外层电子跳回低能态的空穴,将过剩的能量以X射线的形式放出,所产生的X射线即为代表各元素特征的X射线荧光谱线,称为特征X射线,其能量等于原子内壳层电子的能级差,即原子特定的电子层间跃迁能量。
特征X射线的符号表示方法常用名(Siegbahn)根据跃迁情况命名,例如向K层跃迁的为K线系,包括Kα(L层向K层跃迁)、Kβ(典型为M层向K层跃迁),向L层跃迁的为L线系。特征X射线谱线的相对强度一般为K线系强度>L线系强度>M线系强度,同线系中强度Kα>Kβ(典型的Kα与Kβ强度比约为15:2),Lα>Lβ(典型的Lα与Lβ强度比约为4:3),原则上选用较强的特征X射线谱线作分析。X射线荧光分析法是根据特征X射线的能量来鉴别元素(定性),并根据该元素X射线荧光光子数来分析元素在物体中的含量(定量)。
其中探测器的作用是接收元素的特征X射线光子的同时,区分不同能量的光子,并对不同能量的光子进行计数,所有的X射线探测器都具有一定的能量分辨本领,称为能量分辨率,即能够分辨出能量有一定差距的X射线光子,能量分辨率通常以5.9keV处的MnKα线最大幅度一半处的谱线宽度(FWHM)来表示。
考虑到分析对象(电子电器产品、矿物、油料、金属材料等)中的分析目标元素(其K线系或L线系能量低于50keV),目前较常用的商用X射线荧光光谱仪多选用硅半导体探测器,该类探测器的能量分辨率常见为145eV(1keV=1000eV),最优可至125eV,以上分辨率数值为实验室中理想情况下取得,实际应用中对不同能量X射线光子的分辨率约在上述值基础上增加约50eV~300eV。目前较常用的商用X射线荧光光谱仪选用做特征X射线荧光的光子能量分布于0~50keV能量段中,并根据特征X射线谱线的相对强度规律选择谱线作分析。
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