[发明专利]真空吸附治具有效

专利信息
申请号: 201811011706.2 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109015464B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 金亮;蓝永海 申请(专利权)人: 深圳市华讯方舟微电子科技有限公司
主分类号: B25B11/00 分类号: B25B11/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 石佩
地址: 518102 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 真空 吸附
【权利要求书】:

1.一种真空吸附治具,其特征在于,包括顶盖及枢接所述顶盖的转盘;所述顶盖包括盖板,所述盖板自所述盖板的中部向外呈放射状设有第一通气孔;所述转盘包括枢接所述盖板的基盘,所述基盘设有第二通气孔,自所述基盘中部向外相同距离的所述第二通气孔形成吸附环,各个所述吸附环呈同心圆设置;所述顶盖还包括安装于所述盖板一面上的销钉,所述销钉的一端插设所述盖板,另一端凸伸超出所述盖板;所述销钉凸伸超出所述盖板的一端端面呈半球面设置;所述基盘朝向所述顶盖的一面设有至少两个凹陷,所述凹陷用于对应所述销钉;所述基盘背向所述顶盖的一面上设有至少两个刻度,所述刻度对应所述凹陷;不同的所述刻度还对应不同的所述吸附环;所述盖板背向所述底座的一面上还设有标志位,所述标志位用于与不同的所述刻度对齐;转动所述基盘,可选择导通一个或多个所述吸附环,导通的所述吸附环上的所述第二通气孔去连通所述第一通气孔,以切换不同的吸附半径。

2.根据权利要求1所述的真空吸附治具,其特征在于,还包括底座,所述底座包括基座、安装于所述基座一侧的气管接头、及安装于所述基座顶部的密封圈;所述基座顶部内沿所述基座的周向方向设有安装槽,所述安装槽容纳所述密封圈。

3.根据权利要求2所述的真空吸附治具,其特征在于,所述盖板盖设所述基座,所述盖板与所述基座之间形成抽真空腔;所述盖板背向所述底座的一面上还设有标志位。

4.根据权利要求3所述的真空吸附治具,其特征在于,所述顶盖还包括套设所述盖板的灯带。

5.根据权利要求2所述的真空吸附治具,其特征在于,所述顶盖还包括均匀间隔安装于所述灯带上的发光体、套设所述灯带的遮光圈、贴设于所述盖板朝向所述底座的一面的反光膜、及贴设于所述盖板背向所述底座的一面的扩散膜。

6.根据权利要求5所述的真空吸附治具,其特征在于,所述盖板的中部设有过孔,所述第一通气孔环设于所述过孔的周围;所述盖板的侧面设有凹槽,所述凹槽对应所述灯带,所述发光体夹设于所述灯带与所述盖板之间。

7.根据权利要求6所述的真空吸附治具,其特征在于,所述转盘还包括连接于所述基盘朝向所述顶盖一面上的转轴;所述转轴位于所述基盘的中部,所述转轴穿设所述过孔。

8.根据权利要求1所述的真空吸附治具,其特征在于,所述凹陷的孔径小于所述销钉的半径。

9.根据权利要求1所述的真空吸附治具,其特征在于,所述第二通气孔自所述基盘的中部向外分布呈漩涡状或旋风状设置。

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