[发明专利]成膜装置、成膜方法、以及电子设备的制造方法有效

专利信息
申请号: 201811009947.3 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109972084B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: 柏仓一史;石井博;细谷映之 申请(专利权)人: 佳能特机株式会社;阿奥依株式会社
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/50;C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 张宝荣
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 装置 方法 以及 电子设备 制造
【说明书】:

发明提供一种成膜装置、成膜方法、以及电子设备的制造方法,该成膜装置包括:静电卡盘,其用于保持基板;掩模台,其设置在所述静电卡盘的基板保持面侧,用于保持掩模;磁力施加机构,其设置在所述静电卡盘的与基板保持面相反的一侧,用于对所述掩模施加磁力;以及控制部,其控制所述静电卡盘、所述掩模台以及所述磁力施加机构,在为了使所述基板与所述掩模紧贴而使所述磁力施加机构向所述掩模台移动之前,所述控制部进行控制,以使被所述静电卡盘保持的所述基板与被所述掩模台保持的所述掩模具有规定的间隔。

技术领域

本发明涉及成膜装置以及成膜方法,具体涉及在成膜装置中用于使掩模与基板紧贴的方法以及装置。

背景技术

最近,作为平板显示装置,有机EL显示装置备受关注。有机EL显示装置是自发光显示器,其响应速度、视角、薄型化等特性均优于液晶面板显示器,在监视器、电视机、以智能手机为代表的各种便携式终端等中,正在快速地代替现有的液晶面板显示器。另外,在汽车用显示器等中也在扩展其应用领域。

有机EL显示装置的元件具备在两个相向的电极(阴极、阳极)之间形成有产生发光的有机物层的基本构造。有机EL显示元件的有机物层以及电极金属层通过在真空腔室内使蒸镀物质经由形成有像素图案的掩模而蒸镀到基板上来进行制造。

在这样的成膜步骤中,为了将掩模上的像素图案高精度地成膜于基板,在向基板进行蒸镀之前必须精密地调整掩模与基板的相对位置,使掩模紧贴于基板的成膜面。

为了使掩模紧贴于基板的成膜面,使用磁性板,从基板上部对基板下部的金属制的掩模施加磁力。即,在将调整了相对位置(对准)的基板载置到掩模的上表面的状态下,通过使磁性板与基板的上表面抵接,利用磁性板的磁性,通过对金属制的掩模施加的磁力而使基板与掩模紧贴。

发明内容

发明要解决的课题

例如,在图7所图示的现有技术中,在将由基板保持架721保持着下表面的周缘部的基板710载置到被保持于掩模台722的掩模730上之后,使磁性板724以及冷却板723下降,利用从磁性板724向掩模730施加的磁力而使掩模730与基板710相互吸引而紧贴。

但是,保持在掩模台722上的掩模730因其自重而以挠曲状态被保持。在此,当放置上基板710时,掩模730承受基板的重量而进一步挠曲。在该状态下,使磁性板724以及冷却板723下降直至冷却板723的下表面与基板的上表面周缘部接触,如果向掩模施加磁力将其吸引,则掩模与基板被整体吸引而减少挠曲。但是,当在基板710的上表面的周缘部与冷却板723的下表面接触的状态下吸引掩模与基板时,基板与掩模的中央部的挠曲不能被完全消除,而是以在基板以及掩模的中央部残留有褶皱的状态进行紧贴。

另外,由于掩模与基板的挠曲程度不同,因此,即使具有磁性板724的磁力,掩模与基板也不能完全紧贴,在掩模与基板之间产生间隙。这样的间隙会导致产生蒸镀材料无法高精度地成膜于基板的成膜区域的成膜模糊。

另一方面,最近,为了防止由基板的自重引起的挠曲,研究了替代仅从下方保持基板的基板保持架(或者与基板保持架一起),通过静电卡盘的静电引力来保持基板的上表面的方法。静电卡盘由于通过静电引力吸附基板的上表面,因此设置在基板的正上方。

从而,在使用静电卡盘保持基板并通过磁性板使由静电卡盘保持的基板与掩模紧贴的构造的成膜装置中,静电卡盘在磁性板之下保持基板。

例如,如图8所示,为了使由静电卡盘823吸附并保持的基板810与掩模830紧贴,在使静电卡盘823下降直至基板810的下表面的周缘部与掩模830的上表面周缘部接触之后,若使磁性板824下降而向掩模施加磁力,则掩模被磁力吸引,减少其挠曲。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社;阿奥依株式会社,未经佳能特机株式会社;阿奥依株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811009947.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top