[发明专利]致密型氧化铬砖及其制造方法

权利要求书

1.一种致密型氧化铬砖，其特征在于，所述的致密型氧化铬砖的制备原料包括质量比为（65～35）：（35～65）的骨料和基质料，以及质量占所述骨料和基质料质量之和的0.3～2.5%的结合剂溶液；

所述骨料的主要成分为氧化铬合成料；

所述基质料包括如下质量百分含量的各制备原料：

氧化铬粉 30～40%，

氧化铬合成料 54～60%，

氧化铝粉 2～3%，

硅微粉 0.5～1%，

锆英石粉 0.5～1%，

氧化锆粉 1.5～2%，

钛白粉 1～2%，

电熔锆刚玉砖粉 0.3～3%，以及占所述基质料中氧化铬粉、氧化铬合成料、氧化铝粉、硅微粉、锆英石粉、氧化锆粉、电熔锆刚玉砖粉总质量为0.8～2.2%的结合剂；

所述氧化铬合成料由如下质量百分含量的各原料烧成所得：

氧化铬粉 92.4～93.2%，

钛白粉 2～2.2%，

氧化硅粉 0.5～1.8%，

氧化锆粉 0.5～1.5%，

锆英石粉 0.5～3%，

氧化铝粉 0.5～1.5%，

电熔锆刚玉砖粉 0.3～3%，以及质量为所述氧化铬合成料中的氧化铬粉、钛白粉、氧化硅粉、氧化锆粉、锆英石粉、氧化铝粉、电熔锆刚玉砖粉总质量为0.8～2.2%的结合剂。

2.根据权利要求1所述的致密型氧化铬砖，其特征在于，所述基质料包括如下质量百分含量的各制备原料：

氧化铬粉 37.5%，

氧化铬合成料 56%，

氧化铝粉 2%，

硅微粉 0.5%，

锆英石粉 0.5%，

氧化锆粉 2%，

钛白粉 1%，

电熔锆刚玉砖粉 0.5%，以及占所述基质料中氧化铬粉、氧化铬合成料、氧化铝粉、硅微粉、锆英石粉、氧化锆粉、电熔锆刚玉砖粉总质量为0.8～2.2%的结合剂；

所述氧化铬合成料由如下质量百分含量的各原料烧成所得：

氧化铬粉 93%，

钛白粉 2.2%，

氧化硅粉 0.5%，

氧化锆粉 1%，

锆英石粉 2%，

氧化铝粉 1%，

电熔锆刚玉砖粉 0.3%，以及质量为所述氧化铬合成料中的氧化铬粉、钛白粉、氧化硅粉、氧化锆粉、锆英石粉、氧化铝粉、电熔锆刚玉砖粉总质量为0.8～2.2%的结合剂。

3.根据权利要求1或者2所述的致密型氧化铬砖，其特征在于，所述骨料中的氧化铬合成料为粒径大于等于0.05mm且小于0.15mm的氧化铬合成料、粒径大于等于0.15mm且小于0.45mm的氧化铬合成料、粒径大于等于0.45mm且小于1mm的氧化铬合成料的混合物；

所述的基质料中的氧化铬合成料为粒径小于等于5μm的氧化铬合成料、粒径大于5μm且小于等于12μm的氧化铬合成料、粒径大于12μm且小于等于20μm的氧化铬合成料的混合物。

4.根据权利要求3所述的致密型氧化铬砖，其特征在于，所述骨料中的氧化铬合成料为质量比为（18～25）：（15～20）：（3～6）的粒径大于等于0.05mm且小于0.15mm的氧化铬合成料、粒径大于等于0.15mm且小于0.45mm的氧化铬合成料、粒径大于等于0.45mm且小于1mm的氧化铬合成料的混合物；

所述的基质料中的氧化铬合成料为质量比为（12～15）：（32～37）：（7～10）的小于等于5μm的氧化铬合成料、粒径大于5μm且小于等于12μm的氧化铬合成料、粒径大于12μm且小于等于20μm的氧化铬合成料的混合物。