[发明专利]一种晶圆流片表面缺陷检测装置

说明书

本发明涉及晶圆流片检测附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片表面缺陷检测装置，其可以提高晶圆流片在检测台上的稳定性，提高检测结果，降低使用局限性；并且提高镭射光束的稳定性，提高镭射光束在晶圆流片顶端的照射范围，方便更换检测位置，降低使用局限性，减少人为因素；包括检测台和镭射光发射器；包括固定轴、锥齿盘、固定圆板、左支撑轴、右支撑轴、左螺纹管、右螺纹管、左螺纹杆、右螺纹杆、左托板、右托板、左滑杆、右滑杆、左带动齿轮、右带动齿轮、左主动齿轮、右主动齿轮、左锥齿轮和右锥齿轮；还包括支撑板、固定板、移动块、左挡板、右挡板、底板、调节丝杠、前滑块、后滑块和第一手轮。

技术领域

本发明涉及晶圆流片检测附属装置的技术领域，特别是涉及一种晶圆流片表面缺陷检测装置。

背景技术

众所周知，晶圆流片表面缺陷检测装置是一种用于生产加工后的晶圆流片，对其表面进行瑕疵检测，检测晶圆上是否存在微尘粒子、刮痕、残留物等问题，以便于生产出合格的晶圆流片的辅助装置，其在晶圆流片检测的领域中得到了广泛的使用；现有的晶圆流片表面缺陷检测装置包括检测台、镭射光发射器和侦测器；现有的晶圆流片表面缺陷检测装置使用时，首先将待检测的晶圆流片在无尘环境中取出，然后人工使用镭射光发射器，使镭射光束照射在晶圆流片表面，然后通过外部侦测器接收晶圆流片表面绕射出的光线，并将产生的影像通过与侦测器连接的电脑显示器显示出来，最后通过对影像的分析，辨识并发现瑕疵即可；现有的晶圆流片表面缺陷检测装置使用中发现，晶圆流片在检测台上的稳定性较差，不能将晶圆流片在检测台上进行固定，从而影响镭射光束在晶圆流片表面上的照射检测，影响检测结果，导致其使用局限性较高；并且人工直接操作镭射光发射器向晶圆流片表面进行照射，镭射光束稳定性较差，光束位置不可控，镭射光束在晶圆流片顶端的照射范围较小，更换检测位置操作不便，使用局限性较高，人为因素较多，导致其实用性较差。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供一种提高晶圆流片在检测台上的稳定性，可以将晶圆流片在检测台上进行固定，防止影响镭射光束在晶圆流片表面上的照射检测，提高检测结果，降低使用局限性；并且无需人工直接操作镭射光发射器向晶圆流片表面进行照射，提高镭射光束的稳定性，可以控制调节光束位置，提高镭射光束在晶圆流片顶端的照射范围，方便更换检测位置，降低使用局限性，减少人为因素，提高实用性的晶圆流片表面缺陷检测装置。