[发明专利]破坏臭氧的紫外光清洁系统以及方法有效
申请号: | 201811001819.4 | 申请日: | 2018-08-30 |
公开(公告)号: | CN109420185B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | B·J·蒂洛森 | 申请(专利权)人: | 波音公司 |
主分类号: | A61L2/10 | 分类号: | A61L2/10;A61L2/26 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王小东 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 破坏 臭氧 紫外光 清洁 系统 以及 方法 | ||
1.一种构造成清洁部件的表面的紫外即UV光清洁系统,该UV光清洁系统包括:
包括UV光源的UV光组件(104),该UV光源构造成将UV光发射到所述部件的所述表面上;以及
气流发生器(106),该气流发生器构造成在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流,
其中,由所述气流发生器(106)产生的所述气流破坏臭氧的形成;
该UV光清洁系统进一步包括UV光控制单元(108),该UV光控制单元能操作地联接至所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106),其中,所述UV光控制单元(108)构造成控制所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106)的操作,
其中,所述UV光控制单元(108)构造成在清洁周期中启用所述UV光源,
其中,所述气流发生器(106)构造成横过所述UV光发射区域产生气流。
2.根据权利要求1所述的UV光清洁系统,该UV光清洁系统进一步包括壳体(102),其中,所述UV光组件(104)固定在所述壳体(102)内。
3.根据权利要求2所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)固定至所述壳体(102)。
4.根据权利要求2或者3所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)远离所述壳体(102)定位,其中,所述气流发生器(106)构造成邻近所述部件的一部分固定。
5.根据权利要求1所述的UV光清洁系统,其中,所述UV光控制单元(108)构造成在所述清洁周期中在所述UV光源被启用之前启用所述气流发生器(106)。
6.根据权利要求1至3中的任一项所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)包括风扇组件,该风扇组件包括能操作地联接至至少一个致动器(120)的至少一个风扇(118)。
7.根据权利要求1至3中的任一项所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)构造成沿所述UV光发射区域产生气流。
8.一种构造成清洁部件的表面的紫外即UV光清洁方法,该UV光清洁方法包括:
利用UV光组件(104)的UV光源将UV光发射到所述部件的所述表面上;
使用气流发生器(106)以在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流;以及
用由所述气流发生器(106)产生的所述气流破坏臭氧的形成,
该UV光清洁方法进一步包括:
将UV光控制单元(108)能操作地联接至所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106);并且
使用所述UV光控制单元(108)以控制所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106)的操作,
其中,使用所述UV光控制单元(108)包括在清洁周期中启用所述UV光源,
其中,使用所述气流发生器(106)包括横过所述UV光发射区域产生气流。
9.根据权利要求8所述的UV光清洁方法,该UV光清洁方法进一步包括将所述UV光组件(104)固定在一壳体(102)内。
10.根据权利要求9所述的UV光清洁方法,该UV光清洁方法进一步包括将所述气流发生器(106)固定至所述壳体(102)。
11.根据权利要求9或者10所述的UV光清洁方法,该UV光清洁方法进一步包括使所述气流发生器(106)远离所述壳体(102)定位,其中,远离所述壳体(102)定位包括使所述气流发生器(106)邻近所述部件的一部分定位。
12.根据权利要求8所述的UV光清洁方法,其中,所述使用UV光控制单元(108)包括在所述清洁周期中在所述UV光源被启用之前启用所述气流发生器(106)。
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