[发明专利]破坏臭氧的紫外光清洁系统以及方法有效

专利信息
申请号: 201811001819.4 申请日: 2018-08-30
公开(公告)号: CN109420185B 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: B·J·蒂洛森 申请(专利权)人: 波音公司
主分类号: A61L2/10 分类号: A61L2/10;A61L2/26
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 王小东
地址: 美国伊*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 破坏 臭氧 紫外光 清洁 系统 以及 方法
【权利要求书】:

1.一种构造成清洁部件的表面的紫外即UV光清洁系统,该UV光清洁系统包括:

包括UV光源的UV光组件(104),该UV光源构造成将UV光发射到所述部件的所述表面上;以及

气流发生器(106),该气流发生器构造成在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流,

其中,由所述气流发生器(106)产生的所述气流破坏臭氧的形成;

该UV光清洁系统进一步包括UV光控制单元(108),该UV光控制单元能操作地联接至所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106),其中,所述UV光控制单元(108)构造成控制所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106)的操作,

其中,所述UV光控制单元(108)构造成在清洁周期中启用所述UV光源,

其中,所述气流发生器(106)构造成横过所述UV光发射区域产生气流。

2.根据权利要求1所述的UV光清洁系统,该UV光清洁系统进一步包括壳体(102),其中,所述UV光组件(104)固定在所述壳体(102)内。

3.根据权利要求2所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)固定至所述壳体(102)。

4.根据权利要求2或者3所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)远离所述壳体(102)定位,其中,所述气流发生器(106)构造成邻近所述部件的一部分固定。

5.根据权利要求1所述的UV光清洁系统,其中,所述UV光控制单元(108)构造成在所述清洁周期中在所述UV光源被启用之前启用所述气流发生器(106)。

6.根据权利要求1至3中的任一项所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)包括风扇组件,该风扇组件包括能操作地联接至至少一个致动器(120)的至少一个风扇(118)。

7.根据权利要求1至3中的任一项所述的UV光清洁系统,其中,所述气流发生器(106)构造成沿所述UV光发射区域产生气流。

8.一种构造成清洁部件的表面的紫外即UV光清洁方法,该UV光清洁方法包括:

利用UV光组件(104)的UV光源将UV光发射到所述部件的所述表面上;

使用气流发生器(106)以在位于所述UV光源与所述部件的所述表面之间的UV光发射区域内产生气流;以及

用由所述气流发生器(106)产生的所述气流破坏臭氧的形成,

该UV光清洁方法进一步包括:

将UV光控制单元(108)能操作地联接至所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106);并且

使用所述UV光控制单元(108)以控制所述UV光组件(104)以及所述气流发生器(106)的操作,

其中,使用所述UV光控制单元(108)包括在清洁周期中启用所述UV光源,

其中,使用所述气流发生器(106)包括横过所述UV光发射区域产生气流。

9.根据权利要求8所述的UV光清洁方法,该UV光清洁方法进一步包括将所述UV光组件(104)固定在一壳体(102)内。

10.根据权利要求9所述的UV光清洁方法,该UV光清洁方法进一步包括将所述气流发生器(106)固定至所述壳体(102)。

11.根据权利要求9或者10所述的UV光清洁方法,该UV光清洁方法进一步包括使所述气流发生器(106)远离所述壳体(102)定位,其中,远离所述壳体(102)定位包括使所述气流发生器(106)邻近所述部件的一部分定位。

12.根据权利要求8所述的UV光清洁方法,其中,所述使用UV光控制单元(108)包括在所述清洁周期中在所述UV光源被启用之前启用所述气流发生器(106)。

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