[发明专利]一种新型高选择性荷正电纳滤复合膜的制备方法

权利要求书

1.一种新型高选择性荷正电纳滤复合膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)多孔支撑层为截留分子量在30000～50000的超滤膜；

(2)将超滤膜固定在环氧聚酯框中，芳香多元酸交联剂涂覆在膜表面3～10分钟；

(3)框倾斜移除过量溶液，将膜放入30～90℃鼓风干燥箱5～20分钟；

(4)然后将上述交联剂改性后的膜涂覆质量体积浓度0.2％～5％g/ml的聚乙烯亚胺水溶液，静置1～6分钟，框倾斜移除过量溶液；

(5)将上述膜置于60～100℃鼓风干燥箱5～30分钟，取出后保存在去离子水中。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(1)中的超滤膜为聚砜或聚醚砜。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(2)中的芳香多元酸至少包括邻苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸、均苯三甲酸中的一种。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(2)中的芳香多元酸质量体积浓度在0.05％～0.2％g/ml之间。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(2)中的交联剂溶液中含有质量比例0.1％～0.2％的表面活性剂，该表面活性剂可以是聚氧乙烯月桂醚、十二烷基磺酸钠中的一种。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(2)中交联剂的溶剂是纯水、乙醇、乙醇和水的混合液、乙二醇甲醚中的一种。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(3)中烘干温度在30～60℃，时间为8～10分钟。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(4)中聚乙烯亚胺分子量在600～70000之间，其水溶液的质量浓度在0.2％～3％之间。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(4)中静置时间在1～3分钟之间。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(5)中烘干温度在80～100℃之间，时间为8～10分钟。