[发明专利]一种用于化学镀的预处理组合物

权利要求书

1.一种用于化学镀的预处理组合物，其特征在于，由如下组分组成：不含卤离子的酸，卤离子源和不饱和羧酸；

基于预处理组合物的总体积，包含如下浓度的组分：不含卤离子的酸1～100g/L，卤离子源0.01～10g/L和不饱和羧酸0.001～10g/L；

所述不饱和羧酸选自式（1）或式（2）结构所示化合物的一种或两种以上，

式（1）结构如下：

其中，R₁、R₂和R₃分别独立地选自氢、未取代或被羟基取代的C1～C4烷基、羧基、未取代或被一个或多个取代基任意取代的苯基，所述取代基选自羧基、羟基或羟基取代的C1～C4烷基，R₁、R₂和R₃中只能有一个为含苯环的基团，

式（2）结构如下：

其中，R₄选自氢、羧基、未取代或被一个或多个取代基任意取代的苯基，所述取代基选自羧基、羟基或羟基取代的C1～C4烷基；

不含卤离子的酸选自硫酸、磷酸、烷基磺酸、氨基磺酸中的一种或两种以上。

2.根据权利要求1所述的用于化学镀的预处理组合物，其特征在于，基于预处理组合物的总体积，还包含非还原性多糖0.001～100g/L。

3.根据权利要求1所述的用于化学镀的预处理组合物，其特征在于，所述不含卤离子的酸选为甲磺酸。

4.根据权利要求1所述的用于化学镀的预处理组合物，其特征在于，所述卤离子源选自盐酸、氯化钠、氯化钾、氯化铵、氢溴酸、溴化钠、溴化钾、溴化铵中的一种或两种以上。

5.根据权利要求1所述的用于化学镀的预处理组合物，其特征在于，所述不饱和羧酸选自肉桂酸、间羟基肉桂酸、香豆素、巴豆酸、马来酸或丁炔二酸的一种或两种以上。

6.根据权利要求2所述的用于化学镀的预处理组合物，其特征在于，所述非还原性多糖选自蔗糖、海藻糖或棉子糖的一种或两种以上。

7.一种化学镀金属或金属合金的方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）提供带有铜面的基板；

（2）使所述基板与含贵金属离子的组合物接触；

（3）使用权利要求1～6任一项所述的预处理组合物清洗步骤（2）所获得的基板；

（4）使用化学镀液在步骤（3）所获得的基板上沉积金属或金属合金。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，步骤（2）中所述的贵金属离子为钯，步骤（4）中所述的金属选自镍或金，所述金属合金为镍磷合金。