[发明专利]一种二极管用外延片有效

专利信息
申请号: 201810982088.X 申请日: 2018-08-27
公开(公告)号: CN109166830B 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 吴胜松;叶桂如;吴胜琴 申请(专利权)人: 安徽星宇生产力促进中心有限公司
主分类号: H01L23/32 分类号: H01L23/32;H01L23/60;H01L25/07;H01L29/861
代理公司: 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 代理人: 阮爱农
地址: 241000 安徽省芜湖*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 二极 管用 外延
【说明书】:

发明公开了一种二极管用外延片,包括上外壳和下外壳,所述上外壳设置于下外壳的顶部;所述下外壳的内部设有蓝宝石、非掺杂氮化镓和n型重掺杂氮化镓,且所述蓝宝石、非掺杂氮化镓和n型重掺杂氮化镓依次从下往上紧密贴合,并均与下外壳固定连接;所述上外壳的内部设有多量子肼、p型铝镓氮、p型氮化镓和n型铝镓氮,该种二极管用外延片,在掺镓氧化锌的顶部安装了防反接二极管,可以有效的避免外延片释放静电导通到二极管内的问题,同时采用静电导线将静电导入大地,可以很好的消除静电,保护了二极管,由于在钛铝连接块的表面设置了凹槽,可以有效的和二极管连接柱卡住,很好的将外延片固定在二极管内。

技术领域

本发明涉及外延片技术领域,具体为一种二极管用外延片。

背景技术

外延是半导体工艺当中的一种,在bipolar工艺中,硅片最底层是P型衬底硅(有的加点埋层);然后在衬底上生长一层单晶硅,这层单晶硅称为外延层;再后来在外延层上注入基区、发射区等等。最后基本形成纵向NPN管结构:外延层在其中是集电区,外延上面有基区和发射区,外延片就是在衬底上做好外延层的硅片,因有些厂只做外延之后的工艺生产,所以他们买别人做好外延工艺的外延片来接着做后续工艺,由此我们知道二极管用的外延片运用十分广泛,也需要将其做的更加完善。

现有的二极管用外延片,由于容易释放静电,易造成二极管损坏,而在进行安装外延片时,容易松动,不便于固定。

所以,如何设计一种二极管用外延片,成为我们当前要解决的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种二极管用外延片,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种二极管用外延片,包括上外壳和下外壳,所述上外壳设置于下外壳的顶部;所述下外壳的内部设有蓝宝石、非掺杂氮化镓和n型重掺杂氮化镓,且所述蓝宝石、非掺杂氮化镓和n型重掺杂氮化镓依次从下往上紧密贴合,并均与下外壳固定连接;

所述上外壳的内部设有多量子阱、p型铝镓氮、p型氮化镓和n型铝镓氮,所述多量子阱、p型铝镓氮、p型氮化镓和n型铝镓氮依次从下往上紧密贴合,并与上外壳固定连接,所述多量子阱与n型重掺杂氮化镓紧密贴合;

所述n型铝镓氮的顶部设有掺镓氧化锌,且所述掺镓氧化锌与n型铝镓氮紧密贴合,所述掺镓氧化锌的顶部安装有防反接二极管。

进一步的,所述掺镓氧化锌的一侧设有静电导线,且所述静电导线与掺镓氧化锌电性连接。

进一步的,所述掺镓氧化锌的一侧对称设有镍铝连接片,且所述镍铝连接片分别与n型铝镓氮和防反接二极管紧密贴合。

进一步的,所述上外壳的一侧对称设有钛铝连接块,且所述钛铝连接块与n 型重掺杂氮化镓紧密贴合。

进一步的,所述钛铝连接块的表面设有凹槽,且所述凹槽嵌入设置钛铝连接块中,并与钛铝连接块固定连接。

进一步的,所述防反接二极管的阴极与掺镓氧化锌紧密贴合。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:该种二极管用外延片,在掺镓氧化锌的顶部安装了防反接二极管,可以有效的避免外延片释放静电导通到二极管内的问题,同时采用静电导线将静电导入大地,可以很好的消除静电,保护了二极管,由于在钛铝连接块的表面设置了凹槽,可以有效的和二极管连接柱卡住,很好的将外延片固定在二极管内,不容易松动。

附图说明

图1是本发明的整体结构示意图;

图2是本发明的图1中上外壳和下外壳纵剖图;

图3是本发明的图1中A0部放大图。

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