[发明专利]一种控制陶瓷结合剂熔制过程中硼挥发的方法在审

专利信息
申请号: 201810967519.5 申请日: 2018-08-23
公开(公告)号: CN109093531A 公开(公告)日: 2018-12-28
发明(设计)人: 刘宏伟;吕升东;刘星星;毕志宇 申请(专利权)人: 沈阳中科超硬磨具磨削研究所
主分类号: B24D3/14 分类号: B24D3/14;B24D3/34;C04B35/626;C04B35/63
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 俞鲁江
地址: 110179 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 挥发 熔制 陶瓷结合剂 稀土金属氧化物 质量百分比 二氧化硅 挥发量 结合剂 速率和 氧化钡 氧化钠 氧化硼 氧化铝 引入
【权利要求书】:

1.一种控制陶瓷结合剂熔制过程中硼挥发的方法,其特征在于:所述结合剂中各组分按以下质量百分比组成:二氧化硅45~55%、氧化硼25~35%、氧化铝9~12%、氧化钡3~6%、氧化钠5~8%、稀土金属氧化物3~6%。

2.根据权利要求1所述的陶瓷结合剂原料组成,其特征在于:所述稀土金属氧化物为La2O3Ln2O3Y2O3、Nd2O3、Ho2O3、Gd2O3中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的控制陶瓷结合剂熔制过程中硼挥发的方法,其特征在于:工艺步骤如下:

(1)根据结合剂中各组分的质量百分比配备原料,形成均匀的粉状混合料;

(2)将步骤(1)中制得的混合料放入高温炉中,升温速率为7-10℃/min,升温至1320-1350℃得到预熔料,升温速度的设定是用来保证硼挥发量较小;

(3)将步骤(2)中制得预熔料水淬、破碎、粉磨、过筛处理,即可得到所需粒度的陶瓷结合剂。

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