[发明专利]一种控制陶瓷结合剂熔制过程中硼挥发的方法在审
申请号: | 201810967519.5 | 申请日: | 2018-08-23 |
公开(公告)号: | CN109093531A | 公开(公告)日: | 2018-12-28 |
发明(设计)人: | 刘宏伟;吕升东;刘星星;毕志宇 | 申请(专利权)人: | 沈阳中科超硬磨具磨削研究所 |
主分类号: | B24D3/14 | 分类号: | B24D3/14;B24D3/34;C04B35/626;C04B35/63 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 俞鲁江 |
地址: | 110179 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 挥发 熔制 陶瓷结合剂 稀土金属氧化物 质量百分比 二氧化硅 挥发量 结合剂 速率和 氧化钡 氧化钠 氧化硼 氧化铝 引入 | ||
1.一种控制陶瓷结合剂熔制过程中硼挥发的方法,其特征在于:所述结合剂中各组分按以下质量百分比组成:二氧化硅45~55%、氧化硼25~35%、氧化铝9~12%、氧化钡3~6%、氧化钠5~8%、稀土金属氧化物3~6%。
2.根据权利要求1所述的陶瓷结合剂原料组成,其特征在于:所述稀土金属氧化物为La2O3Ln2O3Y2O3、Nd2O3、Ho2O3、Gd2O3中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的控制陶瓷结合剂熔制过程中硼挥发的方法,其特征在于:工艺步骤如下:
(1)根据结合剂中各组分的质量百分比配备原料,形成均匀的粉状混合料;
(2)将步骤(1)中制得的混合料放入高温炉中,升温速率为7-10℃/min,升温至1320-1350℃得到预熔料,升温速度的设定是用来保证硼挥发量较小;
(3)将步骤(2)中制得预熔料水淬、破碎、粉磨、过筛处理,即可得到所需粒度的陶瓷结合剂。
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