[发明专利]一种清槽液及生产工艺

说明书

本发明公开了一种清槽液及生产工艺，配方包括水、乙二醇单丁醚、聚乙二醇、稀硫酸，各组分的质量百分含量分别是：水37‑45％、乙二醇单丁醚25‑35％、聚乙二醇22‑30％、稀硫酸1‑5％；包括如下步骤，步骤一，原料选取及称量；步骤二，搅拌混合；步骤三，调节pH值及粘度；按照各组分的质量百分含量分别是：水37‑45％、乙二醇单丁醚25‑35％、聚乙二醇22‑30％、稀硫酸1‑5％进行选取，并按照重量百分比之和为1进行称取：将步骤一中称量的水加到配料锅内，调节夹套内的水蒸气和水量进行水浴加温，同时开动搅拌机，该发明，通过相似相溶的原理，对生产印制电路板的显影槽、蚀刻槽、去膜槽的槽体进行清洁，有效去除槽壁上的污染物，提升产品印制电路板的合格率。

技术领域

本发明涉及清槽液技术领域，具体为一种清槽液及生产工艺。

背景技术

清槽液主要针对印制电路板制造过程中使用碳酸钠产生沉淀、油性污垢而研制，能，清除显影机槽(也适用于退膜机)中淡黄色结晶物及油性物；在线路板显影生产中，干膜或绿漆的残留物随着时间推移而容易累积到辊轮和槽壁上，在后续生产中，容易反粘在板面上而造成开路或连线，用传统的碱洗或酸洗以及市售的A、B清槽剂均难以清除，并且现有的有效去除槽壁上的污染物，提升产品印制电路板的合格率，因此设计一种清槽液及生产工艺是很有必要的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种清槽液及生产工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种清槽液，配方包括水、乙二醇单丁醚、聚乙二醇、稀硫酸，各组分的质量百分含量分别是：水37-45％、乙二醇单丁醚25-35％、聚乙二醇22-30％、稀硫酸1-5％。

一种清槽液的生产工艺，包括如下步骤，步骤一，原料选取及称量；步骤二，搅拌混合；步骤三，调节pH值及粘度；步骤四，除杂；步骤五，保存；

其中上述步骤一中，按照各组分的质量百分含量分别是：水37-45％、乙二醇单丁醚25-35％、聚乙二醇22-30％、稀硫酸1-5％进行选取，并按照重量百分比之和为1进行称取；

其中上述步骤二中，将步骤一中称量的水加到配料锅内，调节夹套内的水蒸气和水量进行水浴加温，同时开动搅拌机；当锅内水温升到40℃时，慢慢投入乙二醇单丁醚，加完后继续搅拌，直到混合均匀；保持料温40-50℃，在继续搅拌的条件下加入聚乙二醇，一直搅拌到混合均匀为止，然后待冷至室温后，加入稀硫酸；

其中上述步骤三中，可再加入香精、着色剂、防腐剂及增溶剂，并且测溶液pH值，酌加pH值调节剂调节pH值，调节剂调节pH值至定值；产品冷却到环境温度或测粘度的标准温度；加入食盐调节到所需粘度；

其中上述步骤四中，将配置的混合液通过滤网进行过滤，除去杂质；

其中上述步骤五中，将包装容器先进行一次或数次热水喷射冲洗，去除灰尘，然后放人不同温度的清洗剂槽中连续淹浸，进行洗涤和消毒，在最后一次淹浸之后，再用热水和冷水冲洗，以洗掉碱性并使之冷却；然后将除去杂质的溶液倒入容器中密闭保存。

根据上述技术方案，所述组分的质量百分含量分别是：水41％、乙二醇单丁醚30％、聚乙二醇26％、稀硫酸3％。

根据上述技术方案，所述稀硫酸的浓度为25-30％。

根据上述技术方案，所述步骤四中滤网的目数在300-400目。

根据上述技术方案，所述步骤二乙二醇单丁醚溶解过程中，水温保持在40℃左右，最高不超过50℃。

根据上述技术方案，所述聚乙二醇为PEG4000聚乙二醇。

根据上述技术方案，所述乙二醇单丁醚为一种无色易燃液体。