[发明专利]OCT探测装置及微雕设备

权利要求书

1.一种OCT探测装置，用于对样品进行扫描探测，其特征在于，所述OCT探测装置包括OCT组件、扫描探头和调节部；所述扫描探头包括振镜和场镜；所述扫描探头与所述OCT组件连接；所述振镜和所述场镜位于第一光轴，所述振镜与所述场镜的距离小于所述场镜的焦距；所述场镜位于所述振镜和所述样品表面之间；所述调节部用于调节通过所述扫描探头扫描样品的样品光的光程与所述OCT组件提供的参考光的光程的光程差；

所述调节部调节通过所述扫描探头扫描样品的样品光的光程与所述OCT组件提供的参考光的光程的光程差，包括以所述参考光的光程为基础调节所述样品光的光程的长度，或者以所述样品光的光程为基础调节所述参考光的光程长度。

2.根据权利要求1所述的OCT探测装置，其特征在于，所述扫描探头包括光纤插头和聚焦透镜，所述光纤插头、聚焦透镜和振镜依次设置并位于第二光轴上，其中，第一光轴和第二光轴垂直，所述调节部调节所述样品光光程的长度，包括调节所述样品光从所述扫描探头的光纤插头到所述聚焦透镜之间的光程，或者，调节所述扫描探头与所述样品表面之间的距离。

3.根据权利要求2所述的OCT探测装置，其特征在于，所述调节部包括移动件和卡持件，所述卡持件用于固定所述光纤插头，所述移动件带动所述卡持件移动；或者，所述卡持件用于卡持所述样品或者扫描探头，所述移动件带动所述卡持件移动。

4.根据权利要求2所述的OCT探测装置，其特征在于，所述调节部包括移动件、第一调节镜和与第一调节镜间隔相对设置的第二调节镜，所述第一调节镜包括至少两个第一反射面，所述至少两个第一反射面呈夹角设置；所述第二调节镜包括与所述第一反射面相对应的第二反射面，且一个第一反射面与一个第二反射面间隔相对设置；所述第一反射面位于所述聚焦透镜的光路上，且所述聚焦透镜的光路上的光线经过所述第一反射面与所述第二反射面之间的反射后进入所述振镜，所述移动件带动所述第二调节镜相对第一调节镜移动，调节所述第一反射面与第二反射面之间的距离。

5.根据权利要求4所述的OCT探测装置，其特征在于，所述第一调节镜的第一反射面为多个，所述多个第一反射面朝向相同且依次呈夹角连接，所述第二调节镜包括与所述多个第一反射面相对应的第二反射面，所述多个第二反射面朝向所述第一反射面且依次呈夹角连接。

6.根据权利要求2所述的OCT探测装置，其特征在于，所述OCT组件包括准直镜和与所述准直镜同轴设置的反射镜；所述调节部调节所述参考光光程长度，包括调节所述参考光从所述准直镜到所述反射镜之间的光程。

7.根据权利要求6所述的OCT探测装置，其特征在于，所述调节部包括移动件和卡持件，所述卡持件用于固定所述反射镜，所述移动件带动所述卡持件移动。

8.根据权利要求6所述的OCT探测装置，其特征在于，所述调节部包括移动件、第三调节镜和与第三调节镜间隔相对设置的第四调节镜，所述第三调节镜包括至少两个第三反射面，所述至少两个第三反射面呈夹角设置；所述第四调节镜包括与所述第三反射面相对应的第四反射面，且一个第三反射面与一个第四反射面间隔相对设置；所述第三反射面位于所述准直镜与所述反射镜之间的光路上，且所述聚焦透镜的光路上的光线经过所述第三反射面与所述第四反射面之间的反射后进入所述振镜，所述移动件带动所述第四调节镜相对第三调节镜移动，调节所述第三反射面与第四反射面之间的距离。

9.一种微雕设备，其特征在于，包括激光光源、透镜及权利要求1-8所述的OCT探测装置，所述透镜设置在聚焦透镜和所述振镜之间并位于同一光轴，所述激光光源发出激光，通过所述透镜、振镜和场镜射到所述样品上，对所述样品进行雕刻。