[发明专利]一种对抗外源压力、保护DNA的护肤基质及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种对抗外源压力、保护DNA的护肤基质，其特征在于，由以下质量百分比的组分组成：

1,3-丁二醇10~20%、马齿苋提取物30%、卤虫提取物30%、聚γ-谷氨酸钠1~5%、透明质酸钠 0.5~2%，余量为水。

2.如权利要求1所述护肤基质，其特征在于，所述卤虫提取物为黄色液体，pH值为5.0~6.0，比重1.00~1.02。

3.如权利要求1所述护肤基质，其特征在于，所述马齿觅提取物为淡黄色液体，pH值为4.0~6.0，比重1.000~1.040。

4.一种权利要求1所述护肤基质的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1.将1,3-丁二醇、聚γ-谷氨酸钠、透明质酸钠加热混合至完全溶解，得到澄清透明液体，所述加热温度为75~95℃；

S2.将上述S1中的澄清透明液体冷却至30~45℃，加入马齿觅提取物和卤虫提取物，混合均匀得到护肤基质。

5.如权利要求4所述制备方法，其特征在于，S1中所述加热至完全溶解后持续保温15~30min。

6.一种权利要求1所述护肤基质在制备化妆品中的应用。

7.如权利要求6所述应用，其特征在于，所述化妆品中护肤基质的质量百分比为10~25%。

8.一种化妆品，其特征在于，包括如下质量百分比的组分：

A相：甘油硬脂酸酯0.5~3%、PEG-100硬脂酸酯0.5~3%、聚二甲基硅氧烷2~5%、碳酸二辛酯3~6%、辛酸/癸酸甘油三酯1~4%、鲸蜡醇0.1~0.5%、硬脂醇1~2%、氢化卵磷脂0.1~0.5%、羟苯丙酯0.05~0.1%；

B相：甘油5~15%、卡波姆0.1~0.5%、EDTA二钠0.05~0.2%、羟苯甲酯0.1~0.2%，余量水；

C相：氨甲基丙醇0.1~0.5%；

D相：香精0.01~0.03%、权利要求1或2所述基质10~25%。

9.一种权利要求8所述化妆品的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S3.将A相和B相组分分别加热至75~90℃，混合得到混合物，均质，搅拌，抽真空，保温；

S4.将S3中的混合物降温至60~70℃，加入C相，均质，抽真空，搅拌；

S5.将S4的产物降温至30~45℃，加入D相，抽真空，搅拌，即得到所述化妆品。