[发明专利]氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统和方法

权利要求书

1.一种氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，包括：压力检测装置、氦气检漏设备、氦气源、收集室和气体采样装置，所述氦气检漏设备包括标准容积装置；

所述氦气源可与多个独立设备连通，为每个所述独立设备充氦气；

所述压力检测装置包括多个压差计，两个相邻的所述独立设备之间安装有一个所述压差计；

所述独立设备充完氦气后，放置在所述收集室中，

所述气体采样装置的一端与所述收集室连接，所述气体采样装置的另一端与所述氦气检漏设备连接，

所述标准容积装置与所述收集室连接。

2.根据权利要求1所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述氦气源可与多个独立设备连通，具体为，所述氦气源与一个所述独立设备连接，两个相邻的所述独立设备之间通过辅助软管连接。

3.根据权利要求2所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述的氦气源包括：氦气瓶和真空泵，所述氦气瓶与所述真空泵分别与所述独立设备连接，所述氦气瓶与所述独立设备的连接管路上依次设置有气源阀、调压阀和充气阀，所述真空泵与所述独立设备的连接管路上设置有真空阀。

4.根据权利要求1所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述压力检测装置还包括供电及数据采集组件，所述供电及数据采集组件与每个所述压差计分别连接。

5.根据权利要求1所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述氦气检漏设备采用氦质谱检漏设备。

6.根据权利要求5所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述氦质谱检漏设备还包括：氦质谱检漏仪和供电及数据采集组件标准容积装置；所述供电及数据采集组件与所述氦质谱检漏仪连接，所述氦质谱检漏仪与所述气体采样装置连接，并在连接管路上设置有检漏阀。

7.根据权利要求1所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述气体采样装置包括抽气循环泵，所述抽气循环泵的一端与所述收集室连接，所述抽气循环泵的另一端与所述氦气检漏设备连接。

8.根据权利要求1所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述收集室包括：具备较好密封条件的收集空腔和对流装置，所述对流装置安装在所述收集室内。

9.根据权利要求8所述的氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的系统，其特征在于，所述收集空腔包括专门的建筑、大型密封罐或大型软包装，所述对流装置为风扇。

10.根据权利要求1-9任一项所述的系统进行氦气和压力联合并行检漏多个独立设备的方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1，使用辅助软管将各个独立设备连通，然后将独立设备抽真空，再充入高纯氦气，接着断开辅助软管；

S2，将包括多个独立设备的整个被检设备放入收集室内，打开气体采样装置和氦气检漏设备，测量系统的本底指示值I₀；

S3，泄漏累积时间t以后，记录各个压差计的压差值Δp₁₂、Δp₂₃、Δp₃₄…，其中，Δp₁₂表示独立设备1-2之间的压差，Δp₂₃表示独立设备2-3之间的压差，依次类推；打开气体采样装置和氦气检漏设备，读数稳定后测得被检设备总的泄漏指示值I_c1；

S4，打开标准容积装置，打开气体采样装置和氦气检漏设备，读数稳定后测得参考值I_c2；

S5，所有独立设备总的氦气漏率根据以下公式计算：

其中，

I_c2：打开标准容积后的参考值，pa﹒m³/s，

I_c1：累积检漏后的被检设备总的指示值，pa﹒m³/s，

I₀：本底指示值，pa﹒m³/s，

p：标准容积装置的充氦压力，pa，

V：标准容积装置的体积，m’，

t：泄漏累计时间，s；

S6，根据各个独立设备之间压差和漏率之间的关系，建立以下的一系列关系式：

…

Q₁+Q₂+Q₃+Q₄+...＝Q_p

式中，

t：累计时间，s；

Q：独立设备的漏率，pa﹒m³/s，下标1，2，…分别表示独立设备的编号；

V：独立设备的容积，m³，下标1，2，…分别表示独立设备的编号；

Δp：独立设备之间的压差，Pa，下标12，23，…表示独立设备之间的压差关系；

S7，根据S5和S6中的所有关系式，计算得到各个独立设备分别的漏率。