[发明专利]清洗光罩的装置及其方法

说明书

本申请提供一种清洗光罩的装置及其方法，所述清洗光罩的装置，包括：一机体；一输送装置，其包括一可承载光罩之承载单元，可将光罩移入所述机体内；一清洗单元，设置于所述机体的固定框架中,所述清洗单元包括一可对应光罩伸出或缩回之清洗头；以及一加热单元，设置于所述机体的底部,用以将清洗液加热至适当温度。

技术领域

本申请涉及显示领域，特别是涉及一种清洗光罩的装置及其方法。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器己经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

玻璃光罩，也称光罩、光掩模版、MASK、光学玻璃，常见的玻璃光罩有铬版、干版等，是指用高品质石英玻璃或苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过激光设备精密定位曝光在感光胶上，被曝光的区域会被显影出来，经过蚀刻、脱膜后在金属铬上形成电路图形的产品。

而在平板显示器的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置光罩(Mask)，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压水银灯发出紫外线(Ultraviolet，UV)光，将光罩上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于光罩的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶)，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶)，从而使光刻胶形成所需的图形。

在构图工艺的制作过程中，当UV光照射到基板上时，会造成基板上的起始剂断键形成小分子，小分子与溶剂相溶性较好，会溶解在溶剂中，并随溶剂挥发到空气中，进而附着在光罩上，造成光罩雾化。光罩雾化后，光罩上图案(Pattern)会产生变形，最终通过光罩形成的产品变形，影响产品品质。另外机台内环境问题也会导致光罩上形成有杂质(particle)，同样会影响产品品质。

光罩脏污后就需要对光罩进行清洗，目前通常采用的清洗方法为:将光罩从曝光机上拆下，再搬运到光罩清洗机上进行清洗，洗完之后再安装到曝光机上。

关于光罩的清洗，近年来更发展出一种利用气体或流体所产生的震波来将粒子从光罩表面去除，这种清洗技术的设备成本极高，同时因其系令微粒受震波作用而扬起，但其真空设备不见得能有效的将微粒吸走，而造成微粒进一步污染其他设备与材料。

而目前的清洗方法主要是以流体状的清洗液配合驱动光罩旋转而成，其是利用清洗过程中流体的牵引力造成微粒旋转，是微粒被移除的主要物理机制，且当氢氧化钾(KOH)混液在坦克加热器(Tank Heater)若遇到漏液，药液渗漏到加热器连接线引起线路短路(如图1所示)，烧坏加热器导致两支加热器无法加热，导致光罩在清洗过程，清洁能力下降。

双加热器(Heater)线路为一个串联回路(如图2所示)：第一，如遇线路短路等异常，两个加热器(Heater)将无法工作，加热停止；第二，单一个加热器(Heater)损坏，线路将断路，整组加热器(Heater)不工作，加热停止，影响附属设备工作效率,且双加热器(Heater)连接线无防腐蚀性的装置，氢氧化钾(KOH)混液具有腐蚀性，线路容易被混液腐蚀后漏电、断路。

因此，本申请的主要目的在于提供一种清洗光罩的装置及其方法，以更优化上述所提之问题。

发明内容