[发明专利]化学机械抛光设备及方法

权利要求书

1.一种抛光基板的方法，包括：

在基板支架中提供基板；

提供抛光平台，所述抛光平台具有可移动的抛光垫，所述抛光垫具有两个或更多个区域，每个区域可被操作以按时序接收至少两种不同的浆料组分；以及

依序将至少两种不同的浆料组分分配到所述抛光垫上的所述两个或更多个区域中，所述至少两种不同的浆料组分包括没有材料移除或腐蚀抑制浆料组分的表面改质浆料组分、没有表面改质或腐蚀抑制浆料组分的材料移除浆料组分、以及没有材料移除或表面改质浆料组分的腐蚀抑制浆料组分。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，提供抛光平台包括提供直线型抛光平台，其中所述两个或更多个区域配置为横跨宽度且沿着所述抛光平台的长度延伸。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，提供抛光平台包括提供旋转式抛光平台，其中所述两个或更多个区域配置为同心环。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，依序分配至少两种不同的浆料组分包括将第一浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的一个，以及将第二浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的另一个。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，依序将至少两种不同的浆料组分分配到所述两个或更多个区域中包括将所述表面改质浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的第一个中并且将所述材料移除浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的另一个中。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，依序将至少两种不同的浆料组分分配到所述两个或更多个区域中包括只将所述表面改质浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的第一个区域中并且将另一个不同的浆料组分分配至所述两个或多个区域中的第二区域中。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将至少两种不同的浆料组分分配到所述两个或更多个区域中包括只将所述材料移除浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的第一个区域中并且将另一种不同的浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的第二区域中。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将至少两种不同的浆料组分分配到所述两个或更多个区域中包括只将所述腐蚀抑制浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的第一个区域中并且将另一种不同的浆料组分分配至所述两个或更多个区域中的第二区域中。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将至少两种不同的浆料组分分配到所述两个或更多个区域中包括将选自群组的至少两种不同的浆料组分分配到所述两个或更多个区域中，所述群组由以下构成：

表面改质浆料组分，以及

材料移除浆料组分，其中所述表面改质浆料组分与所述材料移除浆料组分及时提供在不同区域中。

10.如权利要求1所述的方法，进一步包括在所述两个或更多个区域之间分配冲洗液。

11.一种抛光基板的方法，包括：

提供多个个体浆料组分，所述多个个体浆料组分包括没有材料移除或腐蚀抑制浆料组分的表面改质浆料组分、没有表面改质或腐蚀抑制浆料组分的材料移除浆料组分、以及没有表面改质或材料移除浆料组分的腐蚀抑制浆料组分；以及

将所述浆料组分分配到抛光平台的两个或更多个区域。

12.如权利要求11所述的方法，进一步包括一次在所述抛光平台的所述两个或更多个区域中分配一种或两种所述浆料组分、但不是全部所述浆料组分，使得一次在所述两个或更多个区域中的每个区域中提供所述浆料组分中的不同浆料组分或所述浆料组分的不同混合物，所述浆料组分包括所述表面改质浆料组分、所述材料移除浆料组分以及所述腐蚀抑制浆料组分。

13.如权利要求11所述的方法，进一步包括提供直线型抛光平台，其中所述两个或更多个区域配置为横跨宽度且沿着所述抛光平台的长度延伸。