[发明专利]高压元件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810933581.2 申请日: 2018-08-16
公开(公告)号: CN110838512B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 黄宗义;陈巨峰 申请(专利权)人: 立锜科技股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/41;H01L21/336;H01L29/78
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李兰;孙志湧
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 高压 元件 及其 制造 方法
【说明书】:

发明提出一种高压元件及其制造方法。高压元件包含:半导体层、绝缘结构、深阱区、埋层、第一高压阱区、第一导电型阱区、第二高压阱区、本体区、本体极、深阱柱、栅极以及源极与漏极。其中,深阱柱于通道方向上,介于栅极的导电层靠近源极的一侧,与漏极之间,以提供少数载流子吸收通道,而抑制寄生晶体管导通。

技术领域

本发明涉及一种高压元件及其制造方法,特别是指一种能够抑制寄生晶体管导通的高压元件及其制造方法。

背景技术

图1A与1B分别显示一种已知高压元件100的俯视示意图与剖视示意图。所谓的高压元件,是指于正常操作时,施加于漏极的电压高于5V。一般而言,高压元件100的漏极19与本体区16间,具有漂移区12a(如图1B中虚框线范围所示意),将漏极19与本体区16分隔,且漂移区12a在通道方向(如图1A与1B中虚线箭头所示意)的长度根据高压元件100正常操作时所承受的操作电压而调整。如图1A与1B所示,高压元件100包含:阱区12、绝缘结构13、漂移氧化区14、本体区16、本体极16’、栅极17、源极18、与漏极19。其中,阱区12的导电型为N型,形成于基板11上,绝缘结构13为区域氧化(local oxidation of silicon,LOCOS)结构,以定义操作区13a,作为高压元件100操作时主要的作用区。操作区13a的范围如图1A中,粗黑虚线框所示意。栅极17覆盖部分漂移氧化区14。

高压元件100操作时,因高电场而产生的热载流子中的空穴(少数载流子),会经由本体区16注入本体极16’,此少数载流子所形成的电流会造成本体区16与源极18间的顺向电压提高,将使由本体区16、源极18与阱区12所形成的NPN寄生晶体管导通,而限制了安全操作区域(safe operation area,SOA),其中安全操作区域的定义,为本领域技术人员所熟知,在此不予赘述。此外,本体区16与阱区12间的PN接面所形成的电容太大,于高压元件100操作时的瞬时响应,也会在源极18与本体区16间造成位移电流,也会使得寄生晶体管导通。

有鉴于此,本发明提出一种能够在高压元件操作时,抑制寄生晶体管导通,提高安全操作区域的高压元件及其制造方法。

发明内容

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