[发明专利]一种基板承托盘

说明书

本发明提供一种基板承托盘，包括盘体；其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。通过支撑针对基板的中部区域和边缘部位进行承托，减小基板向下弯曲变形的形变量，防止基板与曝光平台接触产生摩擦后导致曝光平台镜面化。

技术领域

本发明涉及基板曝光技术领域，尤其涉及一种基板承托盘。

背景技术

在液晶面板的的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光机对基板进行曝光。利用曝光机对基板进行曝光的过程中，将基板放在承托盘上，利用机械手臂将基板和承托盘一并搬运至曝光平台。

然而，在实际曝光过程中，基板易在自身重力作用下向下产生弯曲变形与曝光平台接触，导致取放基板时基板与曝光平台之间产生磨擦，长久持续磨擦导致曝光平台上的镀膜层磨损，从而导致曝光平台镜面化后造成产品不良。

发明内容

本发明提供一种基板承托盘，以解决基本易与曝光平台之间产生接触磨擦造成曝光平台镜面化的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

一种基板承托盘，包括：

盘体；

其中，所述盘体的表面的中部区域或/和边缘区域上朝上设置有支撑针。

优选的，所述盘体包括框体和与框体固定连接并呈网格状的支撑架，位于所述盘体的中部区域的支撑针设置在支撑架上。

优选的，位于所述盘体的中部区域的支撑针按阵列分布有至少一排和至少一列。

优选的，所述支撑架包括横向支撑条和纵向支撑条，相邻两个所述横向支撑条之间的间距大于相邻两排所述支撑针之间的间距。

优选的，相邻两个所述纵向支撑条之间的间距大于相邻两列所述支撑针之间的间距。

优选的，位于所述盘体的中部区域的支撑针散乱分布。

优选的，位于所述盘体的边缘区域的支撑针绕盘体周侧分布有至少一圈。

优选的，所述支撑针的高度为1～4mm。

优选的，所述支撑针的顶端为球面。

优选的，所述支撑针与盘体一体成型。

本发明的有益效果为：通支撑针对基板的中部区域和边缘部位进行承托，减小基板向下弯曲变形的形变量，防止基板与曝光平台接触产生摩擦后导致曝光平台镜面化。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明具体实施方式中盘体的结构示意图；

图2为本发明一优选实施方式中第一支撑针和第二支撑针的结构示意图；

图3为本发明另一优选实施方式中第一支撑针和第二支撑针的结构示意图；

图4为本发明实施例二中第一支撑针的分布示意图。

附图标记：

10、盘体；11、框体；12、支撑架；121、横向支撑条；122、纵向支撑条；20、第一支撑针；30、第二支撑针。

具体实施方式