[发明专利]半导体发光器件有效

专利信息
申请号: 201810927330.3 申请日: 2015-12-17
公开(公告)号: CN108807632B 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 李美姬;李俊熙;李所螺;张美萝 申请(专利权)人: 首尔伟傲世有限公司
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/22;H01L33/20;H01L33/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 程月;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 发光 器件
【权利要求书】:

1.一种半导体发光器件,所述半导体发光器件包括:

发光结构,在所述发光结构中,堆叠导电衬底、第二导电型半导体层、活性层和第一导电型半导体层;

扩散金属层和绝缘层,形成在所述导电衬底与所述第二导电型半导体层之间;以及

反射电极层,形成在所述第二导电型半导体层下方,

其中,所述反射电极层的面向所述第二导电型半导体层的顶表面具有比所述第二导电型半导体层的底表面小的面积,

所述扩散金属层形成穿过所述绝缘层、所述第二导电型半导体层和所述活性层延伸至所述第一导电型半导体层内部的多个通孔,并且通过所述多个通孔将所述扩散金属层电耦联至所述第一导电型半导体层,

任一通孔与邻近于该通孔的另一个通孔之间的最短距离D2比最靠近所述第一导电型半导体层的外部的通孔与所述第二导电型半导体层的外部之间的最短距离D3大,

所述距离D2表示在对角线方向上彼此最接近的两个通孔之间的距离,

所述半导体发光器件还包括金属覆盖层,所述金属覆盖层形成为覆盖所述反射电极层的侧表面和底表面的至少一部分,

所述金属覆盖层的顶表面的一部分在与所述发光结构的拐角相邻的区域处暴露,且电极垫形成在所述金属覆盖层的暴露区域上,

沿所述半导体发光器件的纵向彼此最接近的两个通孔之间的距离D4-1比任一通孔与邻近于该通孔的另一个通孔之间的最短距离D2大,

沿所述半导体发光器件的横向彼此最接近的两个通孔之间的距离D4-2比任一通孔与邻近于该通孔的另一个通孔之间的最短距离D2大,

任一通孔和邻接于该通孔的另一个通孔之间的最短距离D2大于所述电极垫的外部和最接近所述电极垫的外部的通孔之间的最短距离D1,

沿所述半导体发光器件的纵向彼此最接近的两个通孔之间的距离D4-1和沿所述半导体发光器件的横向彼此最接近的两个通孔之间的距离D4-2大于所述电极垫的外部和最接近所述电极垫的外部的通孔之间的最短距离D1。

2.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中,所述距离D2等于或小于160μm。

3.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中,所述距离D3的范围为50μm至160μm。

4.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中,沿所述半导体发光器件的纵向彼此最接近的两个通孔之间的距离D4-1与沿所述半导体发光器件的横向彼此最接近的两个通孔之间的距离D4-2相等。

5.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中,所述金属覆盖层形成为覆盖所述反射电极层的侧表面和底表面的全部。

6.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中,所述距离D1的范围为90μm至140μm。

7.根据权利要求1所述的半导体发光器件,其中,所述第一导电型半导体层具有形成在其顶表面上的不均匀图案。

8.根据权利要求1所述的半导体发光器件,所述半导体发光器件还包括置于所述导电衬底和所述扩散金属层之间的接合金属层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于首尔伟傲世有限公司,未经首尔伟傲世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810927330.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top