[发明专利]一种高压喷釉设备

说明书

本发明公开了一种高压喷釉设备，其特征在于，包括泵釉装置、稳压分配装置和压力控制装置，稳压分配装置与泵釉装置连接，压力控制装置上设置需要压力参数，压力控制装置连接控制泵釉装置运动，泵到的釉料储存在稳压分配装置，稳压分配装置上设置有压力传感器实时检查压力，压力传感器的信号输出端连接压力控制装置，反馈给压力控制装置，压力控制装置通过加大或者减少频率输出到达控制压力大小和稳压。本发明结构简单，压力可以更高和更稳定。

技术领域

本发明涉及陶瓷生产设备技术领域，具体是涉及一种高压喷釉设备。

背景技术

喷釉法是指采用喷釉器将釉料雾化喷到坯体表面。此种高压喷釉设备配合喷釉柜及喷枪，可以满足客户需要高压力喷釉工艺，同时可以满足客户喷带颗粒釉料。但目前，现有技术中使用的设备存在压力不够高(一般在0.3-0.7MPa)，压力稳定性不好，喷带颗粒釉料时现有设备容易损坏。

发明内容

本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种结构简单、满足高压力需求、压力稳定和喷带颗粒釉料不易损坏的高压喷釉设备。

本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种高压喷釉设备，其特征在于，包括泵釉装置、稳压分配装置和压力控制装置，

稳压分配装置与泵釉装置连接，压力控制装置上设置需要压力参数，压力控制装置连接控制泵釉装置运动，泵到的釉料储存在稳压分配装置，稳压分配装置上设置有压力传感器实时检查压力，压力传感器的信号输出端连接压力控制装置，反馈给压力控制装置(形成闭环控制)，压力控制装置通过加大或者减少频率输出到达控制压力大小和稳压。

作为上述方案的进一步说明，所述泵釉装置包括箱体、齿轮减速机、曲轴连杆、活塞、膜片，齿轮减速机通过连接带动曲轴连杆，活塞与曲轴连杆连接，膜片设置在活塞外，齿轮减速机带动曲轴连杆、活塞来回往复运动，膜片跟随活塞来回运动。

进一步地，箱体内置腔体，腔体内设置有与活塞以及膜片对应的压力调节通道，膜片设置在该压力通道的开口位置，膜片来回运动，膜片向里面运动时，腔体内压力降低；膜片向外面运动时，腔体内压力增加。

进一步地，箱体设置有液体管道一、液体管道二和上、下单向阀，上单向阀与液体管道一连接，下单向阀与液体管道二连接，液体管道二连接稳压分配装置；当箱体的腔体内压力降低，将上单向阀内的滚珠吸下，下上单向阀内的滚珠吸起，液体吸入；当腔体内压力增加，下单向阀内的滚珠压下，将上单向阀内的滚珠推起，液体进入稳压分配装置。

进一步地，箱体的端部设置有盖板，上单向阀、下单向阀分别设置在盖板的上、下端。

进一步地，上单向阀、下单向阀结构一致，分别包括限位阀座、压紧座、滚珠、单向阀座，限位阀座和单向阀座分别设置在压紧座的上下端，压紧座外设置有外盖，限位阀座外套设有O型圈，限位阀座和单向阀座上分别设置有通孔，滚珠设置在限位阀座和单向阀座之间，与通孔活动顶压配合。

进一步地，限位阀座与盖板之间设置有垫片。

进一步地，稳压分配装置包括分釉罐及其上设置的膜片式阻尼器、压力传感器，分釉罐设置有进釉口和出釉口，进釉口设置有单向阀，出釉口上安装有球阀，釉料液体通过单向阀后进入分釉罐储存，再经分釉罐上的球阀向外输送釉料液体，膜片式阻尼器起稳压作用，压力传感器采用压力追踪，通过压力控制装置的软件程序自动调节压力，保持压力稳定。

本发明的运行原理为：

一、在压力控制装置上输入需要的压力，压力控制装置在软件程序控制下输出频率，对泵釉装置进行控制；