[发明专利]多层金属涂层Logo及其制备方法、玻璃基板和电子设备

说明书

本发明公开了一种多层金属涂层Logo及其制备方法、玻璃基板和电子设备，涉及镀膜技术领域。多层金属涂层Logo依次包括与非金属基板接触的第一Ti层、Nb层、Cu层以及第二Ti层。其制备方法包括在非金属基板表面依次沉积第一Ti层、Nb层、Cu层和第二Ti层，得到多层金属涂层Logo。本发明缓解了传统的单层金属膜附着力差、强度低，丝印Logo金属质感和光泽较差，颜色单一，抗腐蚀和耐老化性能不良的缺陷。本发明涂层Logo运用多金属搭配，实现不同色彩(玫瑰金)Logo的镀膜，不仅金属质感突出、光泽度好，而且具有良好的机械附着力、强度以及抗腐蚀和耐老化的特点，满足对Logo外观和性能要求。

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，具体而言，涉及一种多层金属涂层Logo及其制备方法、玻璃基板和电子设备。

背景技术

随着智能手机的普及，消费者对手机外观要求已越来越高，目前非金属材质的手机后盖已成为多数消费电子产品厂商中高端机型所追求的设计方向之一，未来几年，智能手机后盖将逐步由金属材质变为以陶瓷、玻璃、宝石为主要代表的非金属材质。

薄膜技术在现实生活中的使用越来越普遍，我们所接触到的很多物品都会使用镀膜技术，大到房子、汽车，小到眼镜片、工艺品等。根据加工方式的不同，可分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。薄膜种类主要有以下几种：防指纹膜(AS/AF)、增透膜(AR)、滤光膜(IR，UV，带通)、高反膜(金属膜，介质膜)、半反膜(HM，BS)、扩散膜(PBS)、类金刚石膜(DLC)、不连续导电膜(NCVM)、导电膜(ITO)等。

通常使用的金属膜为单层金属膜，通常使用延展性金属(例如金等)作为镀膜材料，但其在PVD上加工时与基体的附着力较差，而且延展性金属膜强度不高，不能满足一些应用领域对强度的要求。此外，有些单层金属膜反射率较小，不能获得较好的反射效果。

目前对于玻璃等透明基体制作装饰膜通常是在产品背面丝印不同颜色Logo，再通过正面显示得到所需颜色的Logo，但通过丝印方式得到的Logo金属质感和光泽较差，并且Logo的抗腐蚀和耐老化性能较差，已不能满足信耐性的要求。而且丝印Logo和单层金属Logo颜色较为单一，不能满足客户的个性化需求。

因此，所期望的是提供一种新的金属涂层Logo，能够解决上述问题中的至少一个。

有鉴于此，特提出本发明。

发明内容

本发明的目的之一在于提供一种多层金属涂层Logo，膜系结构包括Ti/Nb/Cu/Ti，运用多金属搭配，实现不同色彩Logo的镀膜，该多层金属涂层Logo不仅金属质感突出、光泽度好，而且具有良好的机械附着力、强度以及抗腐蚀和耐老化的特点。

本发明的目的之二在于提供一种多层金属涂层Logo的制备方法，适用面广泛，能普遍应用在金属溅射生产机台上，批量生产性能稳定。

本发明的目的之三在于提供一种包括上述多层金属涂层Logo或上述多层金属涂层Logo的制备方法得到的多层金属涂层Logo的玻璃基板。

本发明的目的之四在于提供一种包括上述玻璃基板的电子设备。

为了实现本发明的上述目的，特采用以下技术方案：

第一方面，提供了一种多层金属涂层Logo，依次包括第一Ti层、Nb层、Cu层以及第二Ti层，其中，第一Ti层与非金属基板接触。

优选地，在本发明技术方案的基础上，所述第一Ti层的厚度为3～5nm，所述Nb层的厚度为11～15nm，所述Cu层的厚度为35～45nm，所述第二Ti层的厚度为75～80nm。

优选地，在本发明技术方案的基础上，所述第一Ti层的厚度为3～4nm，所述Nb层的厚度为11～12nm，所述Cu层的厚度为40～45nm，所述第二Ti层的厚度为78～80nm；