[发明专利]多光束多光子显微成像装置有效
| 申请号: | 201810911833.1 | 申请日: | 2018-08-10 |
| 公开(公告)号: | CN109211855B | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
| 发明(设计)人: | 唐云青;张硕;戴陆如 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
| 地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光束 光子 显微 成像 装置 | ||
1.一种多光束多光子显微成像装置,其特征在于,包括:
光源模块,用于产生能用于多光子激发的激光;
分束器,用于将所述激光转化为分布在一条直线上的多束呈等角间距的激光;
共振-振镜扫描头,包括沿激光光路方向依次设置的共振扫描头和振镜扫描头,所述共振扫描头和振镜扫描头的扫描方向相互垂直且所述多束激光的排列方向与所述振镜扫描头的扫描方向一致,所述多束激光在所述共振-振镜扫描头的几何中心位置重叠;
聚焦模块,用于将经过所述共振-振镜扫描头出射的激光转换为等间距的聚焦光斑并照射至样本,以激发荧光或产生多光子高阶谐波信号;
成像模块,用于收集所述荧光或多光子高阶谐波信号进行成像。
2.根据权利要求1所述的多光束多光子显微成像装置,其特征在于,所述聚焦模块包括沿激光光路方向依次设置的第一扫描透镜、第一成像透镜、二向色镜、物镜。
3.根据权利要求2所述的多光束多光子显微成像装置,其特征在于,所述成像模块包括沿探测光路方向依次设置的所述物镜、反射单元、第二成像透镜和相机;其中,反射单元用于反射所述荧光或多光子高阶谐波信号。
4.根据权利要求3所述的多光束多光子显微成像装置,其特征在于,所述反射单元包括所述二向色镜。
5.根据权利要求2所述的多光束多光子显微成像装置,其特征在于,在聚焦模块中,还包括至少一个中继光路,所述中继光路用于调整激光的光束直径。
6.根据权利要求2所述的多光束多光子显微成像装置,其特征在于,所述分束器包括沿激光光路方向依次设置的透镜单元、光整形元件以及第二扫描透镜。
7.根据权利要求6所述的多光束多光子显微成像装置,其特征在于,所述透镜单元用于使强度呈高斯分布的激光转化为强度呈线状分布的激光。
8.根据权利要求6所述的多光束多光子显微成像装置,其特征在于,所述光整形元件和所述第二扫描透镜的组合用于将所述激光转化为分布在一条直线上的多束呈等角间距的激光。
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