[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法、显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种薄膜晶体管，其特征在于，包括：

衬底基板；

形成在所述衬底基板上的栅极层、栅极绝缘层、有源层和源漏极层，所述有源层包括第一区域，所述第一区域为未被所述栅极层以及所述源漏极层覆盖；

形成在所述有源层背离所述衬底基板一侧的钝化层，且所述钝化层与所述有源层的第一区域直接接触；

其中，所述有源层和所述钝化层均整层掺杂有稀土元素。

2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，

所述有源层掺杂有钆、钪、钇、镧、钕、铈、镨、钷、钐和铕中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管，其特征在于，

所述钝化层掺杂有铈、钐、钆、铒和铥中的至少一种。

4.一种薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，所述薄膜晶体管的制作方法用于制作权利要求1-3中任一项所述的薄膜晶体管；

所述薄膜晶体管的制作方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成栅极、栅极绝缘层、有源层和源漏极层，其中，所述有源层包括第一区域，所述第一区域为未被所述栅极层以及所述源漏极层覆盖；且所述有源层掺杂有稀土元素；

利用溶液法在所述有源层背离所述衬底基板的一侧形成钝化层，所述钝化层与所述有源层的所述第一区域直接接触；且所述钝化层整层掺杂有稀土元素。

5.根据权利要求4所述的薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，

利用溶液法在所述有源层背离所述衬底基板的一侧形成钝化层，包括：

将包含掺杂元素的化合物加入到溶剂中，搅拌、静止老化，过滤得到钝化层原液；

利用旋涂的方法，将所述钝化层原液涂布于钝化层预设区域内，所述钝化层原液至少覆盖所述有源层的所述第一区域，以形成钝化层；

在真空环境下，对所述钝化层进行退火处理。

6.根据权利要求5所述的薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，

执行所述利用旋涂的方法，将所述钝化层原液涂布于钝化层预设区域内，所述钝化层原液至少覆盖所述有源层的所述第一区域，以形成钝化层的步骤的次数为至少两次。

7.根据权利要求5所述的薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，

所述在真空环境下，对所述钝化层进行退火处理的同时，还包括：

利用深紫外线照射所述钝化层。

8.根据权利要求4所述的薄膜晶体管的制作方法，其特征在于，

所述利用溶液法在所述有源层背离所述衬底基板的一侧形成钝化层，包括：

将包含掺杂元素的化合物、原位燃烧燃料加入到溶剂，搅拌、静止老化，过滤得到钝化层原液；

利用喷涂的方法，将所述钝化层原液涂布于钝化层预设区域内，所述钝化层原液至少覆盖所述有源层的所述第一区域，以形成钝化层；

在真空环境下，对所述钝化层进行退火处理。

9.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括权利要求4-8任一项所述的薄膜晶体管的制作方法。