[发明专利]一种变焦曝光方法

权利要求书

1.一种变焦曝光方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1、将涂布完成光阻后的蓝宝石晶圆放置曝光机待曝，使2次曝光时晶圆固定在相同位置，避免位移时2次曝光位置不同造成图形失焦；

步骤2、进行2次曝光前，确认曝光机单次曝光时适用的能量时间、可用之焦距景深范围、适用曝光能量与中心焦距；

步骤3、确认适用曝光能量及中心焦距后可开始进行2次曝光变焦，首先进行首次曝光，首次曝光使用原适用能量的6成曝光时间，焦距设定为中心焦距+0.5um，聚焦于晶圆中心向下0.5um的位置；

步骤4、完成首次曝光后，进行第2次变焦曝光，第2次变焦曝光设定曝光使用原能量的3成曝光时间，焦距设定为中心焦距-0.3um，聚焦于晶圆中心向上0.3um的位置；

步骤5、完成变焦曝光后，退出蓝宝石晶圆。

2.根据权利要求1所述的变焦曝光方法，其特征在于，所述步骤1中使2次曝光时晶圆固定在相同位置的方法是：在曝光机上选择Execute process将operation模式更改为Nochange。

3.根据权利要求1所述的变焦曝光方法，其特征在于，所述步骤2中确认曝光机单次曝光时适用的能量时间、可用之焦距景深范围、适用曝光能量与中心焦距的方法是：针对进行变焦曝光的曝光机以test模式各别做出不同曝光能量时间及各别焦距的矩阵图形。

4.根据权利要求1所述的变焦曝光方法，其特征在于，所述步骤2中曝光机的可用之焦距景深范围共有1.2um，以一半0.6um处作为中心焦距。

5.根据权利要求1所述的变焦曝光方法，其特征在于，所述步骤5中退出蓝宝石晶圆的方法是：曝光机选择REMOVE wafer＝unload将完成曝光的蓝宝石晶圆退出进行后续显影制程。