[发明专利]一种反射和透射一体化的高光谱成像系统及方法

权利要求书

1.一种反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，包括箱体(9)、设于箱体(9)顶部的成像装置以及设于箱体(9)内部的透射装置，其中：

所述成像装置用于获取待检测样品的发射高光谱图像和透射高光谱图像，其与高度调节装置(5)相连，并在高度调节装置(5)的作用下实现高度的调节；

所述透射装置位于成像装置的下方，其包括位移平台(17)以及安装在位移平台(17)上的透射单元(14)，该透射单元(14)在位移平台(17)的带动下实现位置的调整，其用于产生透射光源以透过待检测样品，所述透射单元(14)的两侧还设置有用于产生反射光源的反射光源组件；

所述透射单元(14)包括黑箱(19)、设于黑箱(19)内部并通过导轨滑块组件与黑箱(19)相连的透射光源、设于透射光源上方的扩散板(24)、用于封盖黑箱(19)的且位于扩散板(24)上方的箱盖(22)以及设于箱盖(22)上并开设有透光孔的置物板(23)。

2.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述导轨滑块组件包括纵向导轨(20)、纵向导轨滑块(21)和横向导轨(28)，其中纵向导轨(20)和纵向导轨滑块(21)分别设置有两个，两个纵向导轨(20)固定在黑箱的两侧壁上，两个纵向导轨滑块(21)与两个纵向导轨(20)对应连接，并实现滑动配合，所述横向导轨(28)的两端与两个纵向导轨滑块(21)相连，并通过纵向导轨滑块(21)实现与纵向导轨(20)的相对运动。

3.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述透射光源包括透射卤素灯(26)以及用于安装透射卤素灯(26)的灯座滑块(27)，所述灯座滑块(27)呈阵列分布在横向导轨(28)上，并可沿横向导轨(28)滑动。

4.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述反射光源组件包括水平导轨(16)、竖直导轨(2)和反射卤素灯(13)，所述水平导轨(16)安装在箱体(9)的底部，竖直导轨(2)安装在水平导轨(16)上，该竖直导轨(2)上安装有滑块(11)，所述反射卤素灯(13)通过光源旋转支架(12)安装在滑块(11)上，通过调节竖直导轨在水平导轨上的位置、滑块的高度以及光源旋转支架的方向以调节反射卤素灯发射光源的入射角度。

5.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述高度调节装置(5)包括高度调节支架(6)、高度调节旋钮(7)和丝杆(8)，所述高度调节支架(6)固定在箱体(9)的顶部，所述丝杆(8)安装在高度调节支架(6)上，该丝杆(8)的上端与高度调节旋钮(7)相连，下端与成像装置相连。

6.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述位移平台(17)包括位移平台丝杆(31)、位移平台支架(30)、丝杆滑块(32)和透射装置放置平台(18)，所述位移平台丝杆(31)安装在所述位移平台支架(30)上，并与步进电机(34)相连，所述丝杆滑块(32)与位移平台丝杆(31)螺纹配合，其上安装有所述透射装置放置平台(18)，以此通过步进电机(34)带动位移平台丝杆(31)转动，进而带动丝杆滑块(32)及其上的透射装置放置平台(18)运动。

7.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述置物板(23)上透光孔的形状为圆形或长方形，并且大小可调。

8.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述置物板(23)上设置有光阑托盘(36)、安装在光阑托盘上的光阑以及与光阑相连并用于调节光阑位置从而改变透光孔大小的操纵杆(37)。

9.如权利要求1所述的反射和透射一体化的高光谱成像系统，其特征在于，所述置物板(23)上设置有滑轨(38)以及与滑轨(38)滑动配合的移动板(39)，通过调整移动板(39)的位置改变透光孔的大小。