[发明专利]保护膜用粘合剂组合物和保护膜有效
| 申请号: | 201810896030.3 | 申请日: | 2018-08-08 |
| 公开(公告)号: | CN109385233B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
| 发明(设计)人: | 藤川春奈;吉原悠;鸭井彬;中野宏人 | 申请(专利权)人: | 日本电石工业株式会社 |
| 主分类号: | C09J133/00 | 分类号: | C09J133/00;C09J11/06;C09J11/08;C09J7/30;C09J9/02 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;金世煜 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 保护膜 粘合剂 组合 | ||
本发明涉及保护膜用粘合剂组合物和保护膜,该保护膜用粘合剂组合物含有至少具有交联性官能团的(甲基)丙烯酸系树脂(A)、异氰酸酯化合物(B)、上述异氰酸酯化合物(B)以外的具有聚硅氧烷结构和烯化氧结构的异氰酸酯化合物(C)以及防静电剂(D),上述异氰酸酯化合物(C)的含量相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂(A)100质量份为0.10质量份以上。
技术领域
本发明涉及保护膜用粘合剂组合物和保护膜。
背景技术
保护膜为了保护例如液晶型显示装置、有机EL(电致发光)型显示装置等显示装置中使用的光学构件等而被广泛使用。
保护膜在光学构件的表面层叠,保护该光学构件的表面不被污染或损伤,在无需表面保护的阶段从光学构件剥离除去。因此,对保护膜要求在剥离后不污染光学构件(被粘物)的表面(耐污染性)。
此外,若在从光学构件剥离保护膜时产生静电,则在光学构件产生灰尘等的附着、液晶显示装置电路的破坏等不良情况,因此对保护膜要求能够防止在剥离时产生的静电的性质(防静电性)。
例如,在日本特开2015-160907号公报中,作为能够形成可容易地剥离且被粘物的污染少的粘接膜的粘合剂组合物,公开了例如含有具有酸性基团和羟基的(甲基)丙烯酸共聚物、具有反应性基团的二甲基聚硅氧烷化合物、以及交联剂的粘合剂组合物。
例如,在日本特开2005-314579号公报中,作为防静电性优异、对被保护体的污染性得到减少的粘合剂组合物,公开了含有碱金属盐且使用(甲基)丙烯酸环氧烷加成物15重量%~100重量%作为单体成分的粘合剂组合物。
发明内容
近年来,对于保护膜,对防止被粘物的污染的要求提高。本发明的发明人等进行了研究,其结果,例如,对日本特开2015-160907号公报和日本特开2005-314579号公报所记载的粘合剂组合物要求进一步的耐污染性的改良。
为了进一步提高耐污染性,例如,考虑减少二甲基聚硅氧烷化合物等防静电助剂和防静电剂的添加量。然而,在仅减少防静电助剂或防静电剂的添加量的情况下,存在防静电性降低的趋势,因此在剥离除去保护膜时,容易产生静电,有可能产生液晶显示装置等的不良情况。因此,以往的粘合剂组合物难以以高水平维持兼具耐污染性和防静电性。
本发明是鉴于上述情况而完成的,其提供耐污染性和防静电性优异的保护膜用粘合剂组合物以及保护膜。
本发明包含以下方式。
<1>一种保护膜用粘合剂组合物,其含有:至少具有交联性官能团的(甲基)丙烯酸系树脂(A)、异氰酸酯化合物(B)、上述异氰酸酯化合物(B)以外的具有聚硅氧烷结构和烯化氧结构的异氰酸酯化合物(C)、以及防静电剂(D),
上述异氰酸酯化合物(C)的含量相对于上述(甲基)丙烯酸系树脂(A)100质量份为0.10质量份以上。
<2>根据<1>所述的保护膜用粘合剂组合物,其中,上述异氰酸酯化合物(C)相对于上述异氰酸酯化合物(B)的质量比[(C)/(B)]为1/1~1/20。
<3>根据<1>或<2>所述的保护膜用粘合剂组合物,其中,上述异氰酸酯化合物(C)含有由下述结构式(1)表示的结构。
结构式(1)中,r表示1~100的整数,b表示1~100的整数,X表示含有异氰酸酯基的1价的有机基团。
<4>根据<1>~<3>中任一项所述的保护膜用粘合剂组合物,其中,上述异氰酸酯化合物(C)由下述通式(1-1)表示。
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