[发明专利]一种石墨烯基双晶态微执行器的制备方法在审
| 申请号： | 201810893331.0 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN108900111A | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 朱授恩 | 申请（专利权）人： | 同天（福建）石墨烯科技有限公司 |
| 主分类号： | H02N2/00 | 分类号： | H02N2/00 |
| 代理公司： | 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 | 代理人： | 李素红 |
| 地址： | 350007 福建省福州市仓山区城门镇南江滨西大道198*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微执行器 石墨烯 环氧 石墨烯基 微加热器 悬臂梁 光刻 金层 双晶 制备 浸泡 氯化铁溶液 热蒸发沉积 光刻技术 合成石墨 去离子水 制备工艺 传统的 兼容性 蚀刻剂 微加工 支撑体 衬底 缓冲 刻蚀 镍层 悬臂 薄膜 去除 能耗 清洗 芯片 响应 制造 生产 | ||
1.一种石墨烯基双晶态微执行器的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
a)在Ni/SiO2/Si衬底上合成厘米级石墨烯薄膜；
b)在石墨烯上通过热蒸发沉积20-100nm金层，确定四个电极；
c)采用常规光刻技术，用O2等离子体进行离子刻蚀(RIE)，在Ni层上刻蚀出石墨烯蛇纹状微加热器；
d)采用环氧光刻在金层与石墨烯蛇纹状微加热器上形成悬臂梁；
e)采用环氧光刻在悬臂梁上形成支撑体；
f)使用缓冲氧化蚀刻剂(BOE)浸泡处理去除SiO2/Si层，得到环氧/石墨烯/金/镍层；
g)将除去SiO2/Si层后的环氧/石墨烯/金/镍层转移到FeCl3溶液中浸泡5分钟，除去镍层，得到石墨烯-有机薄膜结构的悬臂芯片；
h)将得到的悬臂芯片用去离子化(DI)水清洗；
i)将清洗后的悬臂芯片金层朝上放置于玻璃基片上进行测量。
2.如权利要求1所述的一种石墨烯基双晶态微执行器的制造方法，其特征在于：步骤a)石墨烯薄膜的平均层数为2-12层。
3.如权利要求1所述的一种石墨烯基双晶态微执行器的制备方法，其特征在于：步骤a)中Ni层与SiO2/Si层的厚度均为300nm。
4.如权利要求1所述的一种石墨烯基双晶态微执行器的制备方法，其特征在于：步骤d)中悬臂梁的长、宽、高分别为180μm、200μm、3.4μm。
5.如权利要求1所述的一种石墨烯基双晶态微执行器的制备方法，其特征在于：步骤e)中支撑体的厚度为35-95μm。
6.如权利要求1所述的一种石墨烯基双晶态微执行器的制备方法，其特征在于：步骤g)中FeCl3溶液的浓度为1.0mol/L。
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