[发明专利]一种洁净室腐蚀性气体来源确定方法

说明书

本发明公开了一种洁净室腐蚀性气体来源确定方法，包括如下步骤：(1)提供一洁净室；(2)监测每个所述检测机构的腐蚀试片的电性能参数确定受害区；(3)采集腐蚀试片并辨识出腐蚀性气体包含的化学物质；(4)采集洁净室周围的环境空气并辨识出环境空气包含的化学物质；(5)确定各个机台使用的化学物质和各个工艺使用的化学物质及其衍生物；(6)确定腐蚀性气体的可疑来源；(7)通过计算流体动力学模型模拟各个可疑来源释放的化学物质的流动；(8)确定为腐蚀性气体的来源。本发明的洁净室腐蚀性气体来源确定方法，不但能够检测受害区，而且可以确定腐蚀性气体来源，对洁净室的污染问题达到标本兼治的目的。

技术领域

本发明涉及洁净生产领域，具体涉及一种洁净室腐蚀性气体来源确定方法。

背景技术

洁净室系指对空气洁净度、温度、湿度、压力、噪声等参数根据需要都进行控制的密闭性较好的空间，洁净室的发展与现代工业、尖端技术密切联系在一起。由于精密机械工业(如陀螺仪、微型轴承等加工)、半导体工业(如大规模集成电路生产)等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过，在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10％～15％，64为储存器仅2％。目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。

现有技术中的洁净室包括洁净空间、天花板以及高架地板，天花板上设有复数个送风区，每个送风区包括至少一个送风机构，高架地板设有复数个排风区，送风机构通常为FFU装置或者包括FFU装置和化学过滤器，FFU装置的作用是送风和过滤较大颗粒污染物，化学过滤器的作用是过滤腐蚀性气体，对洁净空间中的腐蚀性气体进行检测时，通常采用点监测的方法实时监测洁净空间中的腐蚀性气体，即对洁净空间中布置多个采样点，然后将采集到的气体通过管路送至分析设备，分析设备对气体进行分析以测定气体中是否含有腐蚀性气体，如含有，则及时停止采样点所在位置的机台的工作，防止产品被污染。

然而上述方法只是对受害区进行检测，其没有确定腐蚀性气体的来源，治标不治本，且上述受害区的检测方法存在以下缺陷：首先，受限于管路的长度，对于大面积的洁净室无法做到采样点的全面覆盖，无法做到全面监测；其次，由于每台分析设备连接多个不同的采样点，分析设备中会残留有前道分析的气流，无法保证后道分析气体的纯度，监测不准确；再次，由于每台分析设备可以连接的管路是有限的，所以连接的采样点也是有限的，需要配备多台分析设备，分析设备仪器昂贵，成本高。综上所述，采用点监测的方法，很难做到监测的全面性和准确性且成本高昂。

发明内容

本发明的目的是提供一种洁净室腐蚀性气体来源确定方法，不但能够检测受害区，而且可以确定腐蚀性气体来源，对洁净室的污染问题达到标本兼治的目的。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种洁净室腐蚀性气体来源确定方法，包括如下步骤：

(1)提供一洁净室，所述洁净室包括自上而下依次设置的送风空间、天花板、洁净空间、高架地板以及回风空间，所述天花板划分为复数个送风区，所述高架地板划分为复数个排风区，所述送风区与所述排风区一一对应的上下布置且对应的二者之间形成柱形空间，所述洁净室还包括与所述柱形空间一一对应的检测机构，所述检测机构包括与流经其所对应柱形空间的腐蚀性气体接触的腐蚀试片和检测所述腐蚀试片电性能参数的检测单元，转至步骤(2)；

(2)监测每个所述检测机构的腐蚀试片的电性能参数，如某个所述检测机构的腐蚀试片的电性能参数按照一个趋势持续发生变化，则判断该检测机构所对应的柱形空间为受害区，转至步骤(3)；

(3)采集被腐蚀性气体污染的所述腐蚀试片并辨识出所述腐蚀性气体包含的化学物质，转至步骤(6)；

(4)采集所述洁净室周围的环境空气并辨识出所述环境空气包含的化学物质，转至步骤(6)；

(5)确定各个机台使用的化学物质和各个工艺使用的化学物质及其衍生物，转至步骤(6)；