[发明专利]量子点膜及其制备方法、背光模组及显示装置

权利要求书

1.一种量子点膜，其特征在于，所述量子点膜包括：第一阻隔层，设置在所述第一阻隔层上的量子点结构和隔离结构，以及设置在所述量子点结构和所述隔离结构上的第二阻隔层，所述隔离结构为光聚合粒子发生光聚合反应形成，所述隔离结构被配置为隔离所述量子点膜周围环境中的水分和氧气；

其中，所述隔离结构包围至少一部分所述量子点结构；

所述隔离结构为网格结构，所述网格结构将所述第一阻隔层划分为多个单元格，且所述量子点结构分布在所述第一阻隔层中每个单元格上，所述多个单元格包括边缘单元格和非边缘单元格，所述网格结构包围所述多个单元格中的每个所述非边缘单元格；

所述网格结构由交叉的多个条状结构组成，且所述多个条状结构的宽度相同；

所述多个单元格中的所有边缘单元格围成环形，且所述环形的宽度大于所述条状结构的宽度，所述环形的宽度小于或等于显示装置的边框的宽度。

2.根据权利要求1所述的量子点膜，其特征在于，所述条状结构的宽度小于50微米，所述环形的宽度为D，50微米≤D≤200微米。

3.一种量子点膜的制备方法，其特征在于，所述量子点膜为权利要求1或2所述的量子点膜，所述方法包括：

形成第一阻隔层，设置在所述第一阻隔层上的量子点结构和隔离结构，以及设置在所述量子点结构和所述隔离结构上的第二阻隔层，所述隔离结构为光聚合粒子发生光聚合反应形成，所述隔离结构被配置为隔离所述量子点膜周围环境中的水分和氧气；

其中，所述隔离结构包围至少一部分所述量子点结构；

所述隔离结构为网格结构，所述网格结构将所述第一阻隔层划分为多个单元格，且所述量子点结构分布在所述第一阻隔层中每个单元格上，所述多个单元格包括边缘单元格和非边缘单元格，所述网格结构包围所述多个单元格中的每个所述非边缘单元格；所述网格结构由交叉的多个条状结构组成，且所述多个条状结构的宽度相同；所述多个单元格中的所有边缘单元格围成环形，且所述环形的宽度大于所述条状结构的宽度，所述环形的宽度小于或等于显示装置的边框的宽度。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述形成第一阻隔层，设置在所述第一阻隔层上的量子点结构和隔离结构，以及设置在所述量子点结构和所述隔离结构上的第二阻隔层，所述隔离结构为光聚合粒子发生光聚合反应形成，包括：

制造初始结构，所述初始结构包括相对设置的第一阻隔层和第二阻隔层，以及位于所述第一阻隔层和所述第二阻隔层之间的混合层，所述混合层包括：量子点和光聚合粒子；

采用紫外光照射所述初始结构中混合层的部分区域，以使得所述部分区域中的光聚合粒子发生光聚合反应以形成隔离结构，以及所述混合层中除所述部分区域中的光聚合粒子之外的部分形成量子点结构，且所述隔离结构包围至少一部分所述量子点结构。

5.一种背光模组，其特征在于，所述背光模组包括权利要求1或2所述的量子点膜。

6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求5所述的背光模组。