[发明专利]磁控溅射设备、载板的传输控制方法及装置

权利要求书

1.一种磁控溅射设备，其特征在于，所述磁控溅射设备包括：

控制器，依次连通的缓冲室、分子泵室和靶室；

所述缓冲室中设置有用以传输载板的第一传送带；

所述分子泵室内靠近所述缓冲室一侧设置有第一位置传感器，所述第一位置传感器用于在感应到所述载板时向所述控制器发送第一感应信号；

所述分子泵室内靠近所述靶室的一侧设置有第二位置传感器，所述第二位置传感器用于在感应到所述载板时向所述控制器发送第二感应信号；

所述控制器分别与所述第一传送带、第一位置传感器和第二位置传感器连接，用于根据所述第一感应信号和所述第二感应信号来调整所述第一传送带的运行速度。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述分子泵室内靠近所述靶室一侧还设置第三位置传感器，所述第三位置传感器用于在感应到载板时向所述控制器发送第三感应信号；

所述控制器还与所述第三位置传感器连接，用于当检测未同时接收到所述第二感应信号和所述第三感应信号时，输出提示信息；所述提示信息用于提示所述磁控溅射设备出现故障。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述第一位置传感器、所述第二位置传感器和所述第三位置传感器均包括激光传感器。

4.一种载板的传输控制方法，其特征在于，所述方法应用于对如权利要求1-3任一项所述的磁控溅射设备的控制，所述方法包括：

当控制载板进入缓冲室中的第一传送带时，向所述第一传送带发送第一控制信号，所述第一控制信号指示所述第一传送带以预设的第一速度运行；

当接收到所述第一位置传感器发送的第一感应信号时，向所述第一传送带发送第二控制信号，所述第二控制信号指示所述第一传送带以预设的加速度逐渐减速运行；

当接收到所述第二位置传感器发送的第二感应信号时，向所述第一传送带发送第三控制信号，所述第三控制信号用于指示所述第一传送带以第二速度运行；所述第二速度小于第一速度；

当检测到所述第一传送带传输完载板时，控制下一个载板进入所述第一传送带。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

根据所述第一速度、所述第二速度、以及所述第一位置传感器与所述第二位置传感器之间的距离，确定所述加速度。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：控制相邻两个载板以预设时间间隔进入所述第一传送带。

7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

当检测到所述缓冲室的传输带传输完当前载板时，控制下一个载板进入所述缓冲室中的传输带。

8.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

当检测未同时接收到所述第二位置传感器发送的第二感应信号和所述第三位置传感器发送的第三感应信号时，输出提示信息；所述提示信息用于提示所述磁控溅射设备出现故障。

9.一种载板的传输控制装置，其特征在于，所述装置包括：

第一发送模块，用于当控制载板进入缓冲室中的第一传送带时，向所述第一传送带发送第一控制信号，所述第一控制信号指示所述第一传送带以预设的第一速度运行；

第二发送模块，用于当接收到所述第一位置传感器发送的第一感应信号时，向所述第一传送带发送第二控制信号，所述第二控制信号指示所述第一传送带以预设的加速度逐渐减速运行；

第三发送模块，用于当接收到所述第二位置传感器发送的第二感应信号时，向所述第一传送带发送第三控制信号，所述第三控制信号用于指示所述第一传送带以第二速度运行；所述第二速度小于第一速度。