[发明专利]一种真空连续浸渍处理装置

权利要求书

1.一种真空连续浸渍处理装置，其特征在于，包括相垂直的底座和内设电路集成板的立柱、穿设于所述立柱上带真空启动器的真空浸渍机构和干燥装置、设于所述真空浸渍机构和所述干燥装置两侧连接处的第一控制器和第二控制器、设于所述干燥装置右侧的自动检测装置、设于所述真空浸渍机构右侧并通过一触发器与所述第一控制器相连的冷却装置，所述冷却装置下方连接有一带有自动处理器的余料回收槽，所述干燥装置内上下两端均设有多排烘干孔，所述自动检测装置与所述第一控制器电路相连，并根据所述自动检测装置的成品参数检测结果触发连续处理及冷却启动，所述真空浸渍机构和所述干燥装置形成回字型闭环处理结构。

2.根据权利要求1所述的一种真空连续浸渍处理装置，其特征在于，所述真空浸渍机构设于所述干燥装置的上方。

3.根据权利要求1所述的一种真空连续浸渍处理装置，其特征在于，所述触发器设于所述第一控制器上方。

4.根据权利要求1所述的一种真空连续浸渍处理装置，其特征在于，所述电路集成板可根据不同处理需求针对所述真空浸渍机构和所述干燥装置自动分配不同温度和湿度。

5.根据权利要求1所述的一种真空连续浸渍处理装置，其特征在于，所述冷却装置与所述余料回收槽呈T字型。

6.根据权利要求1所述的一种真空连续浸渍处理装置，其特征在于，所述自动检测装置和所述余料回收槽均固定设于底座上。