[发明专利]一种光学扩散膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810882242.6 申请日: 2018-08-06
公开(公告)号: CN109031486A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 曹立军 申请(专利权)人: 曹立军
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 246260 安徽省安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 光扩散粒子 制备 光学扩散膜 玻璃微粉 硅藻土 涂层组合物 孔隙结构 固化剂 下涂层 聚酯 熔融 光学薄膜技术领域 多重反射 尼龙粒子 透光性能 遮盖性能 球化炉 喷吹 折射 引入 支撑
【权利要求书】:

1.一种光学扩散膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

(1)光扩散粒子的制备

(1.1)向硅藻土中加入酸性溶液,浸泡处理后过滤并用去离子水淋洗2~3次,接着对其进行烘干、研磨细化处理,得到硅藻土微粒;

(1.2)向步骤(1.1)中制备得到的硅藻土微粒中加入有机溶剂,接着边搅拌边加入玻璃微粉,然后超声分散处理30~60min;得到混合物A;

(1.3)在球化炉中采用火焰喷吹混合物A,得到所述的光扩散粒子;

(2)将上述光扩散粒子与尼龙粒子混合,接着加入聚酯多元醇和固化剂,搅拌混合均匀,得到用于光学扩散膜的下涂层组合物;

将上述光扩散粒子与PMMA粒子混合,接着加入聚酯多元醇和固化剂,搅拌混合均匀,得到用于光学扩散膜的上涂层组合物;

(3)将下涂层组合物、上涂层组合物先后涂布于PET基材的两侧,得到所述的光学扩散膜。

2.根据权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法,其特征在于:所述硅藻土微粒的粒径为5~10μm;所述玻璃微粒的粒径为1~3μm。

3.根据权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法,其特征在于:步骤(1.2)中,所述硅藻土微粒与玻璃微粉的重量比为1:(0.3~0.6)。

4.根据权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法,其特征在于:步骤(1.3)中,控制球化炉的真空度为0.10~0.45Mpa。

5.根据权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述的尼龙粒子的粒径为3~8μm。

6.根据权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述PMMA粒子的粒径为10~20μm。

7.根据权利要求1所述的光学扩散膜的制备方法,其特征在于:步骤(3)中,

所述PET基材的厚度为100~250μm;

下涂层组合物在PET基材表面涂覆的厚度为5~15μm;

上涂层组合物在PET基材表面涂覆的厚度为10~35μm。

8.一种如权利要求1~7任意一项所述的制备方法制备得到的光学扩散膜。

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