[发明专利]存在微结构的基底表面薄膜上表面平整化装置与方法在审
| 申请号： | 201810878942.8 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN109332104A | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 闫英;周平;郭晓光;张尚雄;郭东明 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | B05C11/00 | 分类号： | B05C11/00;B05C11/02;B05C11/10;B05D1/00;B05D3/04 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 赵淑梅;李馨 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 微结构 上表面 盖片 铺展 薄膜 调整垫片 基底表面 平整化 液膜 制备技术领域 表面薄膜 基底薄膜 基底组成 硅阵列 结构基 平整性 注液管 基底 可控 旋涂 施加 | ||
1.一种存在微结构的基底表面薄膜上表面平整化装置，其特征在于，所述装置自上而下由注液管、盖片、用于控制基底与盖片之间间隙大小的调整垫片和表面存在微结构的基底组成；
所述盖片为中心设有圆形通孔的圆形片材，所述盖片下表面边缘处沿圆周均匀固定若干调整垫片；所述调整垫片通过热熔胶粘剂与基底相固定；所述基底与盖片具有相同的形状及尺寸。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述注液管和盖片间利用胶粘剂连接固定；所述调整垫片和盖片间利用胶粘剂连接固定。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述调整垫片为可剥离的云母片。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述盖片下表面距边缘0.5～2mm处沿圆周均匀固定三处调整垫片。
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述盖片为表面粗糙度Ra为0.5～10nm的石英玻璃抛光片。
6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述注液管内径与盖片中心圆孔内径相等，为5～10mm。
7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述热熔胶粘剂为石蜡。
8.权利要求1所述装置的使用方法，其特征在于，所述方法如下:
①用移液枪将薄膜胶溶液滴落至注液管内，静置3～7min；
②将所述装置施加转速1000～10000rpm；
③所述溶液在间隙内完全铺展后，将所述装置放置在烘箱中，薄膜胶溶液成型温度加热20～30min后形成薄膜，将所述装置放置在空气中冷却至室温；
④将所述装置放置在加热平台上设定温度为高于热熔胶粘剂的熔点温度5～10℃，待热熔胶粘剂融化后将盖片取下。
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