[发明专利]一种纳米材料制备系统及利用该系统生产纳米材料的工艺

权利要求书

1.一种纳米材料制备系统，其特征在于：包括将液态前驱体定量雾化的前驱体雾化装置（20）、生成粉体纳米材料的等离子体反应器（1）、将粉体纳米材料与气相分离的纳米粉体收集装置（4）、对分离的气相进行处理的尾气处理装置（60）和用以调控前驱体制备纳米材料过程中各反应参数和过程参数的智能控制系统（70）。

2.如权利要求1所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：所述等离子体反应器（1）包括等离子体发生装置（10）、等离子体反应腔（30）和冷凝部（3）。

3.如权利要求2所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：所述等离子体发生装置（10）是直流等离子体发生器，微波等离子体发生器或电感耦合等离子体发生器。

4.如权利要求2所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：所述等离子体反应腔（30）包括两个同轴的套接的圆筒。

5.如权利要求4所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：雾化的液态前驱体由载气将其以法向方式注入到同轴布置的等离子体反应腔（30）中。

6.如权利要求1所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：所述前驱体雾化装置（20）为高压喷雾或超声喷雾装置。

7.如权利要求1所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：纳米粉体收集装置（4）包括气液分离装置（50）、收集瓶（41）、气固分离装置（45），气固分离装置（45）为旋风分离器（40）、湿法分离器或布袋收集器。

8.如权利要求7所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：所述气液分离装置（50）冷却方式是水冷、气冷或冷却液冷却。

9.如权利要求1所述的一种纳米材料制备系统，其特征在于：所述尾气处理装置（60）包括装填有吸收液的处理池（65）；所述吸收液为酸性吸收液或碱性吸收液。

10.一种利用如权利要求1～9所述的系统生产纳米材料的工艺，其特征在于：包括以下过程：（1）前驱体溶液配置；（2）等离子体激发；（3）前驱体雾化；（4）雾化液滴法向注入等离子体；（5）收集粉体纳米材料；（6）气液分离；（7）尾气处理。