[发明专利]一种Pt纳米晶负载的3D石墨烯及其制备方法

权利要求书

1.一种Pt纳米晶负载的3D石墨烯的制备方法，其特征在于：由下述步骤构成：

步骤一：将络合剂与K₂PtCl₄混合制备成前驱体；

步骤二：将前驱体与氧化石墨烯进行混合，形成水溶液；

步骤三：向步骤二中的水溶液中加入还原剂，加入到水热反应釜中进行水热反应；

步骤四：将水热反应完成的产物进行分离、洗涤、冻干得到气溶胶；

所述各物质的重量份组成为：

络合剂：100～1000份；

氧化石墨烯：1～5份；

K₂PtCl₄：100份；

还原剂：1～10份；

所述络合剂为乙二胺四亚甲基膦酸；

所述还原剂为NH₃·H₂O。

2.根据权利要求1所述的一种Pt纳米晶负载的3D石墨烯的制备方法，其特征在于：所述步骤三中水热反应温度为140℃～240℃。

3.根据权利要求1所述的一种Pt纳米晶负载的3D石墨烯的制备方法，其特征在于：所述步骤四中分离过程为固液分离；

所述步骤四中的洗涤过程为将分离出来的固体，加入去离子水淹没，每隔30～100分钟换水一次，换水5～8次；

所述步骤四中冻干过程在零下80℃下，冻干12小时。

4.根据权利要求1所述的一种Pt纳米晶负载的3D石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的K₂PtCl₄与氧化石墨烯的质量比为30∶1-100∶1；

所述的乙二胺四亚甲基膦酸在反应混合液中的浓度为0.01～20g/L。

5.根据权利要求1所述的一种Pt纳米晶负载的3D石墨烯的制备方法，其特征在于：所述的K₂PtCl₄与乙二胺四亚甲基膦酸的摩尔比为1∶3；

所述的K₂PtCl₄与氧化石墨烯的质量比为50∶1；

所述的NH₃·H₂O与K₂PtCl₄的摩尔比为1∶5；

所述的乙二胺四亚甲基膦酸在反应混合液中的浓度为0.52g/L。