[发明专利]附有抗蚀剂多层膜的基板及图案形成方法

权利要求书

1.一种附有抗蚀剂多层膜的基板，其具有基板与形成于该基板上的抗蚀剂多层膜，其特征在于，

所述抗蚀剂多层膜从所述基板侧开始依次具有：难溶于含过氧化氢的氨水溶液的有机抗蚀剂下层膜、可溶于含过氧化氢的氨水溶液的有机膜、可溶于含过氧化氢的氨水溶液的含硅抗蚀剂中间膜及抗蚀剂上层膜，

其中所述难溶于含过氧化氢的氨水溶液的有机抗蚀剂下层膜，当通过利用以29％氨水/35％过氧化氢水/水＝1/1/8的比例混合而成的65℃的溶液进行处理时，具有3nm/分钟以下的溶解速度，

其中所述可溶于含过氧化氢的氨水溶液的有机膜，当通过利用以29％氨水/35％过氧化氢水/水＝1/1/8的比例混合而成的65℃的溶液进行处理时，具有5nm/分钟以上的溶解速度。

2.根据权利要求1所述的附有抗蚀剂多层膜的基板，其特征在于，所述可溶于含过氧化氢的氨水溶液的有机膜为有机膜形成用组合物的固化物，该有机膜形成用组合物包含高分子化合物与有机溶剂，该高分子化合物具有由下述通式(1)～(4)表示的重复单元中的任意1种以上；

[化学式1]

式中，R₁为碳原子数为1～19的烃基、卤素原子、烷氧基、羧基、磺基、甲氧羰基、羟苯基、或氨基，R₂为氢原子或AL，AL为通过加热或酸的作用而产生酸性官能团的基团，R₃为氢原子、呋喃基、或可具有氯原子或硝基的碳原子数为1～16的烃基；k₁、k₂及k₃为1～2，l为1～3，m为0～3，n为0或1。

3.根据权利要求2所述的附有抗蚀剂多层膜的基板，其特征在于，在所述有机溶剂中，选自丙二醇酯、酮及内酯中的1种以上的合计占超过全部有机溶剂中的30wt％的量。

4.根据权利要求2所述的附有抗蚀剂多层膜的基板，其特征在于，所述有机膜形成用组合物进一步包含热产酸剂及交联剂中的任意一者或两者。

5.根据权利要求3所述的附有抗蚀剂多层膜的基板，其特征在于，所述有机膜形成用组合物进一步包含热产酸剂及交联剂中的任意一者或两者。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的附有抗蚀剂多层膜的基板，其特征在于，所述可溶于含过氧化氢的氨水溶液的有机膜的膜厚为10nm以上且小于100nm。

7.根据权利要求1至5中任一项所述的附有抗蚀剂多层膜的基板，其特征在于，所述含硅抗蚀剂中间膜包含硼及磷中的任意一者或两者。

8.一种图案形成方法，其特征在于，对权利要求1至5中任一项所述的附有抗蚀剂多层膜的基板的抗蚀剂上层膜进行曝光，利用显影液进行显影从而在所述抗蚀剂上层膜上形成图案，将该形成有图案的抗蚀剂上层膜作为蚀刻掩膜并对所述含硅抗蚀剂中间膜进行蚀刻从而形成图案，将该形成有图案的含硅抗蚀剂中间膜作为蚀刻掩膜并对所述有机膜与所述有机抗蚀剂下层膜进行蚀刻从而形成图案，通过利用含过氧化氢的氨水溶液的处理从而将所述形成有图案的含硅抗蚀剂中间膜与所述形成有图案的有机膜去除，将所述形成有图案的有机抗蚀剂下层膜作为掩膜并在所述基板上形成图案。

9.根据权利要求8所述的图案形成方法，其特征在于，在将图案形成于所述基板上之后，通过干蚀刻或湿蚀刻将所述形成有图案的有机抗蚀剂下层膜去除。