[发明专利]一种基于切片截面的隐式曲面多孔实体结构性能分析方法有效

专利信息
申请号: 201810864247.6 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN109145407B 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 冯嘉炜;傅建中;林志伟;商策 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G06F30/17 分类号: G06F30/17;G06T17/20
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 曹兆霞
地址: 310013 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 切片 截面 曲面 多孔 实体 结构 性能 分析 方法
【权利要求书】:

1.一种基于切片截面的隐式曲面多孔实体结构性能分析方法,包括以下步骤:

步骤1:输入待分析的隐式曲面函数表达式f(x,y,z)=c,c为曲面曲率常数,x∈[xmin,xmax],y∈[ymin,ymax],z∈[zmin,zmax],多孔实体壁厚t,切片厚度h;

步骤2:根据隐式曲面函数表达式f(x,y,z)=c,利用移动立方体算法在三维空间生成三角网格曲面,并在三维空间将三角网格曲面偏置形成壁厚为t的多孔实体结构,在生成多孔实体结构后,在三维空间生成一系列的切平面,计算获得切平面与多孔实体结构的相交轮廓,该相交轮廓即为等间距的切片截面;

步骤3:根据切片截面计算隐式曲面多孔实体结构的体积;

步骤4:根据切片截面计算隐式曲面多孔实体结构的孔隙率;

步骤5:根据切片截面计算隐式曲面多孔实体结构的表面积;

步骤6:输出隐式曲面多孔实体结构的体积、孔隙率和表面积。

2.如权利要求1所述的基于切片截面的隐式曲面多孔实体结构性能分析方法,其特征在于,步骤3具体包括:

步骤3.1:计算第i层切片截面的面积Si,其中,

步骤3.2:根据面积Si计算隐式曲面多孔实体结构的体积V为:

3.如权利要求1所述的基于切片截面的隐式曲面多孔实体结构性能分析方法,其特征在于,步骤4具体包括:

步骤4.1:计算第i层切片截面包络区域的面积Qi,其中,

步骤4.2:根据面积Qi计算隐式曲面多孔实体结构的包络体积W为:

步骤4.3:根据包络体积W和多孔实体结构的体积V计算多孔实体结构的孔隙率为:

4.如权利要求1所述的基于切片截面的隐式曲面多孔实体结构性能分析方法,其特征在于,步骤5具体包括:

步骤5.1:计算第i层切片截面的周长Li,其中,

步骤5.2:根据周长Li计算隐式曲面多孔实体结构的侧向表面积D为:

步骤5.3:计算隐式曲面多孔实体结构的水平表面积E,具体包括:

首先,计算隐式曲面多孔实体结构的第i层上水平表面积Ai,上为:

Ai,上=Si-Si∩i+1

Si为第i层切片截面面积,Si∩i+1为i层切片截面与第i+1层切片截面重叠的面积;

然后,计算隐式曲面多孔实体结构的第i层下水平表面积Ai,下为:

Ai,下=Si-Si∩i-1

Si∩i-1为i层切片截面与第i-1层切片截面重叠的面积;

最后,计算隐式曲面多孔实体结构的水平表面积E为:

步骤5.4:计算隐式曲面多孔实体结构的表面积F=D+E。

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